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1. (WO2009114964) APPAREIL DE PRÉPARATION DE SOLUTION ET PROCÉDÉ POUR TRAITER UNE PIÈCE À USINER SEMI-CONDUCTRICE INDIVIDUELLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/114964    N° de la demande internationale :    PCT/CN2008/070514
Date de publication : 24.09.2009 Date de dépôt international : 17.03.2008
CIB :
H01L 21/306 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01), G03F 7/30 (2006.01)
Déposants : ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC. [CN/CN]; Bld. 4, No. 1690 Cailun Road, Zhangjiang High-tech Park, Shanghai 201203 (CN) (Tous Sauf US).
MA, Yue [US/CN]; (CN) (US Seulement).
HE, Chuan [CN/CN]; (CN) (US Seulement).
SHI, Guangtao [CN/CN]; (CN) (US Seulement).
VOHA, Nuch [US/CN]; (CN) (US Seulement).
WANG, Hui [US/CN]; (CN) (US Seulement)
Inventeurs : MA, Yue; (CN).
HE, Chuan; (CN).
SHI, Guangtao; (CN).
VOHA, Nuch; (CN).
WANG, Hui; (CN)
Mandataire : SHANGHAI PATENT & TRADEMARK LAW OFFICE, LLC; 435 Guiping Road, Xuhui, Shanghai 200233 (CN)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SOLUTION PREPARATION APPARATUS AND METHOD FOR TREATING INDIVIDUAL SEMICONDUCTOR WORKPIECE
(FR) APPAREIL DE PRÉPARATION DE SOLUTION ET PROCÉDÉ POUR TRAITER UNE PIÈCE À USINER SEMI-CONDUCTRICE INDIVIDUELLE
Abrégé : front page image
(EN)A low-cost apparatus for chemical solution preparation with controlled process parameters is provided. Such parameters include chemical age, temperature, yield of active ingredients at the point of use, and so on. In addition, the apparatus provides chamber-to-chamber consistency on these parameters across multiple processing chambers in a single wafer wet-clean system. A method utilizing resident time of the chemical solution mixture to achieve optimal combined effect of the chemical solution mixture for best wafer treatment results is also provided.
(FR)L'invention concerne un appareil peu coûteux pour la préparation de solutions chimiques avec des paramètres de processus contrôlés. Parmi lesdits paramètres, on peut citer l'âge chimique, la température, le rendement d'ingrédients actifs au point d'utilisation, etc. En outre, l'appareil permet d'assurer une cohérence de chambre à chambre en ce qui concerne ces paramètres sur plusieurs chambres de traitement dans un système de nettoyage de plaquette unique utilisant un liquide. L'invention concerne également un procédé utilisant le temps de résidence d'un mélange de solution chimique afin d'obtenir un effet combiné dudit mélange de solution chimique pour de meilleurs résultats de traitement de plaquettes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)