WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2009114760) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE TRAITEMENT À PRESSION RÉDUITE ET DE MISE EN DÉCHARGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/114760    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/037076
Date de publication : 17.09.2009 Date de dépôt international : 13.03.2009
CIB :
A61M 1/00 (2006.01), A43B 13/40 (2006.01)
Déposants : KCI LICENSING, INC. [US/US]; Legal Department - Intellectual Property P.O. Box 659508 San Antonio, TX 78265-9508 (US) (Tous Sauf US).
RANDOLPH, Larry, Tab [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : RANDOLPH, Larry, Tab; (US)
Mandataire : HILTON, Robert, C.; (US).
JOHNSTON, Robert, H.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/036,433 13.03.2008 US
Titre (EN) OFFLOADING AND REDUCED-PRESSURE TREATMENT SYSTEMS AND METHODS
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE TRAITEMENT À PRESSION RÉDUITE ET DE MISE EN DÉCHARGE
Abrégé : front page image
(EN)An offloading and reduced-pressure treatment system (100) includes an offloading and reduced-pressure treatment device (102), which has a plantar member (104) formed from an offloading manifold material. The offloading and reduced-pressure treatment system further includes a reduced-pressure interface (150) fluidly coupled to the pressure-transmitting layer of the plantar member, a reduced-pressure source (154), and a reduced-pressure delivery conduit (152) fluidly coupled to the reduced-pressure source and to the offloading and reduced-pressure treatment device. The offloading manifold material includes a first barrier layer, a support layer (128), a pressure- transmitting layer and a second barrier layer. The offloading and reduced-pressure treatment device may also have a dorsal member (106) and a bridge member (108). Methods are also presented.
(FR)Un système de traitement à pression réduite et de mise en décharge comprend un dispositif de traitement à pression réduite et de mise en décharge, qui présente un élément plantaire formé dans un matériau collecteur de mise en décharge. Le système de traitement à pression réduite et de mise en décharge comprend en outre une interface à pression réduite reliée de manière fluidique à une couche de transmission de la pression de l'élément plantaire, une source de pression réduite, et un conduit de fourniture de pression réduite reliée de manière fluidique à la source de pression réduite et au dispositif de traitement à pression réduite et de mise en décharge. Le matériau collecteur de mise en décharge comprend une première couche barrière, une couche support, une couche de transmission de la pression et une seconde couche barrière. Le dispositif de traitement à pression réduite et de mise en décharge peut également présenter un élément dorsal et un élément de pont. Des procédés sont également présentés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)