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1. (WO2009114253) LITHOGRAPHIE D’IMMERSION UTILISANT DES NANOPARTICULES À BASE D’HAFNIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/114253    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/034852
Date de publication : 17.09.2009 Date de dépôt international : 23.02.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), C01G 27/02 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
Déposants : SEMATECH, INC. [US/US]; 2706 Montopolis Drive Austin, TX 78741 (US) (Tous Sauf US).
ZIMMERMAN, Paul, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
SIMONS, Carita [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ZIMMERMAN, Paul, A.; (US).
SIMONS, Carita; (US).
BYERS, Jeffrey;
Mandataire : GORDON, S., Scott; Fulbright & Jaworski L.L.P., 600 Congress Ave., Suite 2400, Austin, TX 78701 (US)
Données relatives à la priorité :
12/035,963 22.02.2008 US
Titre (EN) IMMERSION LITHOGRAPHY USING HAFNIUM-BASED NANOPARTICLES
(FR) LITHOGRAPHIE D’IMMERSION UTILISANT DES NANOPARTICULES À BASE D’HAFNIUM
Abrégé : front page image
(EN)Method, apparatus, and composition of matter suited for use with, for example, immersion lithography. The composition of matter includes hafnium dioxide nanoparticles having diameters less than or equal to about 15 nanometers. The apparatus includes the composition of matter, a light source, a platform for supporting a work piece, and a lens element. The method includes providing a light source, providing a lens element between the light source and a work piece, providing the composition of matter between the lens element and the work piece, and exposing the work piece to light provided by the light source by passing light from the light source through the lens element and the composition of matter to the work piece.
(FR)L’invention concerne un procédé, un appareil et une composition de matière appropriée pour une utilisation, par exemple, en lithographie d’immersion. La composition de matière inclut des nanoparticules de dioxyde d’hafnium ayant des diamètres inférieurs ou égaux à environ 15 nanomètres. L’appareil inclut la composition de matière, une source de lumière, une plate-forme pour supporter une pièce de fabrication, et un élément de lentille. Le procédé inclut la fourniture d’une source de lumière, la fourniture d’un élément de lentille entre la source de lumière et une pièce de fabrication, la fourniture de la composition de matière entre l’élément de lentille et la pièce de fabrication, et l’exposition de la pièce de fabrication à la lumière fournie par la source de lumière en faisant passer la lumière provenant de la source de lumière à travers l’élément de lentille et la composition de matière vers la pièce de fabrication.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)