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1. (WO2009114251) CONTRÔLE DE PROCESSUS UTILISANT DES DONNÉES DE PROCESSUS ET DES DONNÉES DE RENDEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/114251    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/034619
Date de publication : 17.09.2009 Date de dépôt international : 20.02.2009
CIB :
G05B 23/02 (2006.01)
Déposants : MKS INSTRUMENTS, INC. [US/US]; 2 Tech Drive, Suite 201, Andover, MA 01810 (US) (Tous Sauf US).
HENDLER, Lawrence [US/US]; (US) (US Seulement).
LIN, Kuo-chin [US/US]; (US) (US Seulement).
WOLD, Svante, Bjarne [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HENDLER, Lawrence; (US).
LIN, Kuo-chin; (US).
WOLD, Svante, Bjarne; (US)
Mandataire : PARK, Michelle, E.; Proskauer Rose LLP, One International Place, Boston, MA 02110 (US)
Données relatives à la priorité :
12/044,346 07.03.2008 US
Titre (EN) PROCESS CONTROL USING PROCESS DATA AND YIELD DATA
(FR) CONTRÔLE DE PROCESSUS UTILISANT DES DONNÉES DE PROCESSUS ET DES DONNÉES DE RENDEMENT
Abrégé : front page image
(EN)A method for monitoring a manufacturing process features acquiring metrology data for semiconductor wafers at the conclusion of a final process step for the manufacturing process ('Step a'). Data is acquired for a plurality of process variables for a first process step for manufacturing semiconductor wafers ('Step b'). A first mathematical model of the first process step is created based on the metrology data and the acquired data for the plurality of process variables for the first process step ('Step c'). Steps b and c are repeated for at least a second process step for manufacturing the semiconductor wafers ('Step d'). An nth mathematical model is created based on the metrology data and the data for the plurality of process variables for each of the n process steps ('Step e'). A top level mathematical model is created based on the metrology data and the models created by steps c, d and e ('Step f ')• The top level mathematical model of Step f is based on those process variables that have a substantial effect on the metrology data.
(FR)La présente invention concerne un procédé de surveillance d'un processus de fabrication, se caractérisant par l'acquisition de données de métrologie pour plaquettes semi-conductrices à la conclusion d'une étape finale de processus pour le processus de fabrication (Etape a). Des données sont acquises pour une pluralité de variables de processus pour une première étape de processus de fabrication de plaquettes semi-conductrices (Etape b). Un premier modèle mathématique de la première étape de processus est créé en se basant sur les données de métrologie et sur les données acquises pour la pluralité de variables de processus pour la première étape de processus (Etape c). Les étapes b et c sont répétées pour au moins une deuxième étape de processus de fabrication de plaquettes semi-conductrices (Etape d). Un nième modèle mathématique est créé en se basant sur les données de métrologie et sur les données pour la pluralité de variables de processus pour chacune des n étapes de processus (Etape e). Un modèle mathématique de niveau supérieur est créé en se basant sur les données de métrologie et sur les modèles créés par les étapes c, d, et e (Etape f). Le modèle mathématique de niveau supérieur de l'étape f est basé sur ces variables de processus qui ont un effet substantiel sur les données de métrologie.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)