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1. (WO2009114230) RÉDUCTION DE L’IMPLANTATION DE PARTICULES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/114230    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/034002
Date de publication : 17.09.2009 Date de dépôt international : 13.02.2009
CIB :
G01N 23/225 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT, INC. [US/US]; One Corporation Way Peabody, Massachusetts 01960 (US) (Tous Sauf US).
KNIPPELMEYER, Rainer [US/US]; (US) (US Seulement).
ECONOMOU, Nicholas [US/US]; (US) (US Seulement).
ANANTH, Mohan [US/US]; (US) (US Seulement).
STERN, Lewis A. [US/US]; (US) (US Seulement).
DINATALE, Bill [US/US]; (US) (US Seulement).
SCIPIONI, Lawrence [US/US]; (US) (US Seulement).
NOTTE IV, John V. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : KNIPPELMEYER, Rainer; (US).
ECONOMOU, Nicholas; (US).
ANANTH, Mohan; (US).
STERN, Lewis A.; (US).
DINATALE, Bill; (US).
SCIPIONI, Lawrence; (US).
NOTTE IV, John V.; (US)
Mandataire : DALEY, Sean, P.; Fish & Richardson P.C. P.O. Box 1022 Minneapolis, Minnesota 55440-1022 (US)
Données relatives à la priorité :
61/034,702 07.03.2008 US
Titre (EN) REDUCING PARTICLE IMPLANTATION
(FR) RÉDUCTION DE L’IMPLANTATION DE PARTICULES
Abrégé : front page image
(EN)Methods disclosed herein include: (a) forming a channel in a sample, the channel extending one micron or more along a direction oriented at an angle to a surface of the sample; (b) exposing a portion of the sample above the channel to a particle beam to cause particles to leave the surface of the sample; and (c) forming an image of the sample based on particles that leave the surface.
(FR)L’invention concerne des procédés consistant à : (a) former un canal dans un échantillon, le canal étendant un ou plusieurs microns suivant une direction orientée à un angle donné par rapport à une surface de l’échantillon; (b) exposer une partie de l’échantillon au-dessus du canal à un faisceau de particules pour amener les particules à quitter la surface de l’échantillon; et (c) former une image de l’échantillon d’après les particules qui quittent la surface.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)