WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2009113682) SYSTÈME D'ALIMENTATION EN EAU À GAZ DISSOUS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/113682    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054933
Date de publication : 17.09.2009 Date de dépôt international : 13.03.2009
CIB :
B08B 3/08 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : KURITA WATER INDUSTRIES LTD. [JP/JP]; 4-7, Nishishinjuku 3-chome, Shinjuku-ku, Tokyo, 1608383 (JP) (Tous Sauf US).
TOKOSHIMA, Hirohito [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MORITA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAMETANI, Shigeji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TOKOSHIMA, Hirohito; (JP).
MORITA, Hiroshi; (JP).
KAMETANI, Shigeji; (JP)
Mandataire : SHIGENO, Tsuyoshi; Nissin bldg., 9F, 5-10, Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo, 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-066269 14.03.2008 JP
Titre (EN) GAS-DISSOLVED WATER SUPPLY SYSTEM
(FR) SYSTÈME D'ALIMENTATION EN EAU À GAZ DISSOUS
(JA) ガス溶解水供給システム
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a gas-dissolved water supply system which can produce gas-dissolved water of high density efficiently and which can circulate and supply the water to a use point. A reserving bath (1) is fed with waste water (or rinsing waste water), after the object to be rinsed was rinsed with water containing a dissolved gas (oxygen), via a pipeline (15), and reserves that waste water, and the supply water is fed via a supply water pipeline (1a). The water of the reserving bath (1) is fed to a purifying device (4) through a forced feed pump (2) and a heat exchanger (3) for keeping the water temperature constant. The water, which is cleared of a foreign substance by the purifying device (4), is fed through a flow meter (5) to a degassing device (6). After this, the gas is dissolved by a gas dissolving device (7), and the water is fed, after chemical was added thereto, to a use point.
(FR)Le système d'alimentation en eau à gaz dissous selon l'invention permet de produire de l'eau à gaz dissous de haute densité de façon efficace et permet de faire circuler et d'acheminer de l'eau jusqu'à un point d'utilisation. Un bain de réserve (1) est alimenté en eaux usées (ou eaux usées de rinçage), après que l'objet à rincer a été rincé avec de l'eau contenant un gaz dissous (oxygène), via une canalisation (15), et réserve ces eaux usées, et l'eau d'alimentation est délivrée par une canalisation d'eau d'alimentation (1a). L'eau du bain de réserve (1) est délivrée à un dispositif de purification (4) par l'intermédiaire d'une pompe d'alimentation forcée (2) et un échangeur de chaleur (3) pour maintenir la température de l'eau constante. L'eau, qui est débarrassée d'une substance étrangère par le dispositif de purification (4), est délivrée par l'intermédiaire d'un débitmètre (5) à un dispositif de dégazage (6). Après cela, le gaz est dissous par un dispositif de dissolution de gaz (7), et l'eau est délivrée à un point d'utilisation après addition d'un produit chimique.
(JA) 高濃度のガス溶解水を効率よく製造し、ユースポイントに循環供給することができるガス溶解水供給システム。貯留槽1に、ガス(酸素)を溶解させた水で被洗浄物を洗浄した後の排水(洗浄排水)が配管15を経由して貯留され、また、補給水配管1aを経由して補給水が供給される。貯留槽1の水は圧送ポンプ2及び水温を一定に保つための熱交換器3を経由して、純化装置4に送られる。純化装置4で異物が除去された水は、流量計5を経て、脱気装置6へ送られる。その後、ガス溶解装置7でガスが溶解され、薬品が添加され、ユースポイントに供給される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)