WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2009113670) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR VISUALISER LA DISTRIBUTION D'UN CHAMP ÉLECTRIQUE LOCAL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/113670    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054901
Date de publication : 17.09.2009 Date de dépôt international : 13.03.2009
CIB :
G01N 23/225 (2006.01)
Déposants : JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY [JP/JP]; 1-8, Hon-cho 4-chome, Kawaguchi-shi, Saitama, 3320012 (JP) (Tous Sauf US).
FUJITA, Jun-ichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJITA, Jun-ichi; (JP)
Mandataire : NISHIZAWA, Toshio; Kudan-Horie Bldg. 6F, 3-14, Kudan-kita 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1020073 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-064682 13.03.2008 JP
2008-081187 26.03.2008 JP
Titre (EN) METHOD AND DEVICE FOR VISUALIZING DISTRIBUTION OF LOCAL ELECTRIC FIELD
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR VISUALISER LA DISTRIBUTION D'UN CHAMP ÉLECTRIQUE LOCAL
(JA) 局所電界分布可視化方法とその装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a device for visualizing distribution of a local electric field formed near a sample (2) wherein distribution of a local electric field is visualized in multi-tone by deflecting a primary electron beam (1) passing through a local electric field formed near a sample (2) by the local electric field, detecting secondary electrons generated and discharged from a detection element provided on the downstream side of the orbit of the deflected primary electron beam (1) by means of a secondary electron detector (6), and then synthesizing an image formed of detected signals and a scanning electron beam image obtained by scanning the sample (2). Consequently, a method for visualizing distribution of a local electric field, in which distribution of a local electric field can be obtained in real time and in multi-tone by single image scanning using an ordinary electron beam scanning optical system, can be provided.
(FR)L'invention concerne un dispositif pour visualiser la distribution d'un champ électrique local formé à proximité d'un échantillon (2). Selon l'invention, la distribution d'un champ électrique local est visualisée en plusieurs tons en provoquant la déviation d'un faisceau d'électrons primaire (1) qui passe à travers un champ électrique local formé à proximité d'un échantillon (2) par le champ électrique local, en détectant les électrons secondaires générés et déchargés d'un élément de détection présent du côté aval de l'orbite du faisceau d'électrons primaire (1) dévié au moyen d'un détecteur d'électrons secondaires (6), et ensuite en synthétisant une image formée des signaux détectés et une image du faisceau d'électrons de balayage obtenue par un balayage de l'échantillon (2). L'invention permet ainsi de réaliser un procédé de visualisation de la distribution d'un champ électrique local, dans lequel la distribution d'un champ électrique local peut être obtenue en temps réel et en plusieurs tons par balayage d'une seule image en utilisant un système optique ordinaire de balayage du faisceau d'électrons.
(JA) 試料2の近傍に形成される局所電界の分布を可視化するものであり、試料2の近傍に形成された局所電界を通過する1次電子線1を局所電界により偏向させ、偏向した1次電子線1の軌道の下流側に設けた検出素子から生成放出した2次電子を2次電子検出器6で検出し、その検出した信号による画像を、試料2を走査して得られる走査電子線画像と合成することにより、前記局所電界の分布を多階調で可視化する。これにより、通常の電子線走査光学系を用いて、局所電界分布を1度の画像走査で多階調的に、かつリアルタイムで求めることができる局所電界分布可視化方法が提供可能となる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)