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1. (WO2009113568) PROCÉDÉ DE FORMATION D'IMAGE ET MATÉRIAU DURCI FAÇONNÉ À L'AIDE DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/113568    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054627
Date de publication : 17.09.2009 Date de dépôt international : 11.03.2009
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), G02F 1/1337 (2006.01), G02F 1/1339 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01), B29K 67/00 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo, 1060031 (JP) (Tous Sauf US).
SATO, Morimasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SATO, Morimasa; (JP)
Mandataire : SIKs & Co.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi, 1-chome, Chuo-ku, Tokyo, 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-060592 11.03.2008 JP
Titre (EN) IMAGE FORMING METHOD AND HARDENED MATERIAL FORMED USING THE SAME
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'IMAGE ET MATÉRIAU DURCI FAÇONNÉ À L'AIDE DE CELUI-CI
(JA) 画像形成方法およびこれを用いて形成した硬化物
Abrégé : front page image
(EN)Provided is an image forming method capable of simultaneously forming spacers and ribs, and excelling in pattern precision, hardness, and the like. The image forming method includes processes (1) through (6) described below, and is characterized by using a composition which, in a post-drying state containing substantially no solvents, has a viscosity in the range from 3 to 50 mPa·s and comprises: a monomer (A) having in the same molecule at least two types of curable functional groups that have different reactivity, at least one of which is an α,β-unsaturated ester group; and a surfactant (B). (1) a process for providing a photosensitive resin layer, comprising the abovementioned composition, on a substrate (2) a process for heat-treating the photosensitive resin layer at 50 to 150°C and removing the solvent, as necessary (3) a process for pressure-bonding the photosensitive resin layer and a contoured surface of a stamp having at least two types of contoured surface with different shapes (4) a process for exposing the photosensitive resin layer to light (5) a process for detaching the stamp with the contoured surfaces from the photosensitive resin layer (6) a process for heat-treating the photosensitive resin layer removed from the stamp with the contoured surfaces at 160 to 250°C, as necessary
(FR)L'invention concerne un procédé de formation d'image capable de façonner simultanément des entretoises et des nervures, avec une excellente précision des motifs, une excellente dureté et similaire. Le procédé de formation d'image comporte les processus (1) à (6) décrits ci-dessous, et est caractérisé par l'utilisation d'une composition qui, après séchage ne contient pratiquement aucun solvant, possède une viscosité comprise entre 3 et 50 mPa.s et comporte : un monomère (A) présentant dans la même molécule au moins deux types de groupes fonctionnels vulcanisables de réactivité différente, dont au moins un est un groupe ester α,β insaturé ; et un tensioactif (B). (1) un processus de formation d'une couche de résine photosensible, comprenant la composition mentionnée ci-dessus, sur un substrat (2) un processus de traitement thermique de la couche de résine photosensible entre 50 et 150°C et d'élimination du solvant, selon les besoins (3) un processus de collage sous pression de la couche de résine photosensible et d'une surface à contour d'un tampon présentant au moins deux types de surface à contour de forme différente (4) un processus d'exposition de la couche de résine photosensible à la lumière (5) un processus de séparation du tampon présentant les surfaces à contour de la couche de résine photosensible (6) un processus de traitement thermique de la couche de résine photosensible retirée du tampon avec les surfaces à contour entre 160 et 250°C, selon les besoins.
(JA)  パターン精度、硬さ等に優れたスペーサーおよびリブ体を同時に形成可能な画像形成方法を提供する。  乾燥後の実質的に溶剤を含まない状態において、(A)反応性の異なる2種類以上の硬化性官能基を同一分子内に有し、かつ、該硬化性官能基の少なくとも1つがα,β-不飽和エステル基である単量体と、(B)界面活性剤とを含み、かつ、粘度が3~50mPa・sの範囲である組成物を用いることを特徴とし、さらに、下記(1)~(6)の工程を含む画像形成方法。 (1)基板上に前記組成物からなる感光性樹脂層を設ける工程 (2)必要に応じ、感光性樹脂層に、50~150°Cの熱処理を実施し溶剤を除去する工程 (3)少なくとも2種類の形状の異なる凹凸表面を有する型の凹凸表面と、前記感光性樹脂層とを接するように圧着させる工程 (4)感光性樹脂層を光照射する工程 (5)前記凹凸表面を有する型を感光性樹脂層から剥離する工程 (6)必要に応じ、凹凸表面を有する型から剥離した感光性樹脂層を、160~250°Cで熱処理する工程
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)