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1. (WO2009113549) COMPOSITION POUR FORMER UN FILM DE SOUS-COUCHE POUR LA CRÉATION D'IMAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/113549    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054561
Date de publication : 17.09.2009 Date de dépôt international : 10.03.2009
CIB :
C08G 73/10 (2006.01), H01L 21/28 (2006.01), H01L 21/288 (2006.01), H01L 21/312 (2006.01), H01L 21/336 (2006.01), H01L 29/417 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01), H01L 51/05 (2006.01), H01L 51/30 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo, 1010054 (JP) (Tous Sauf US).
MAEDA, Shinichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ONO, Go [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MAEDA, Shinichi; (JP).
ONO, Go; (JP)
Mandataire : HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo, 1010062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-059534 10.03.2008 JP
Titre (EN) COMPOSITION FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR IMAGE FORMATION
(FR) COMPOSITION POUR FORMER UN FILM DE SOUS-COUCHE POUR LA CRÉATION D'IMAGE
(JA) 画像形成用下層膜組成物
Abrégé : front page image
(EN)A composition for forming an underlayer film for image formation is provided which gives an image-forming underlayer film having high water repellency (hydrophobicity), capable of being easily changed in hydrophilicity/hydrophobicity by exposure even to a small amount of ultraviolet, and having a high relative permittivity. Also provided is a cured film obtained from the composition. The composition for forming an underlayer film for image formation is characterized by containing at least one member selected from the group consisting of a polyimide precursor comprising structural units represented by the following formulae (1) and (1a) and a polyimide obtained by the dehydrating cyclization of the polyimide precursor. (In the formulae, A represents a tetravalent organic group; B1 represents a divalent organic group having fluoroalkyl; B2 represents a divalent organic group; R1, R2, R1a, and R2a each independently represents hydrogen or a monovalent organic group; and n and m each is a positive integer, provided that 0.01≤n/(n+m)≤0.3.)
(FR)L'invention porte sur une composition pour former un film de sous-couche pour la création d'image, qui donne un film de sous-couche de création d'image ayant un caractère hydrophobe (hydrophobie) élevé, capable d'être facilement changé en hydrophilie/hydrophobie par l'exposition à même une petite quantité d'ultraviolet et ayant une permittivité relative élevée. L'invention porte également sur un film durci obtenu à partir de la composition. La composition pour former un film de sous-couche pour la création d'image est caractérisée par le fait qu'elle contient au moins un élément choisi dans le groupe constitué par un précurseur de polyimide comportant des unités structurales représentées par les formules suivantes (1) et (1a) et un polyimide obtenu par la cyclisation par déshydratation du précurseur de polyimide. (Dans les formules, A représente un groupe organique tétravalent; B1 représente un groupe organique divalent ayant un fluoroalkyle; B2 représente un groupe organique divalent; R1, R2, R1a et R2a représentent chacun indépendamment hydrogène ou un groupe organique monovalent, et n et m représentent chacun un entier positif, à la condition que 0,01 ≤ n/(n + m) ≤ 0,3.)
(JA)【課題】形成された画像形成用下層膜が高い撥水性(疎水性)を有し、少ない紫外線露光量でもの親疎水性を容易に変化させることができ、しかも、比誘電率が高い、画像形成用下層膜組成物並びに該組成物を用いて得られる硬化膜を提供する。 【解決手段】下記式(1)及び(1a)で表される構造単位を含むポリイミド該ポリイミド前駆体を脱水閉環して得られるポリイミドからなる群より選ばれる少なくとも一種を含む事を特徴とする画像形成用下層膜組成物並びに該組成物を用いて得られる硬化膜。 (式中、Aは4価の有機基を表し、B1はフルオロアルキル基有する2価の有機基を表し、B2は2価の有機基を表し、R1、R2、R1a、R2aはそれぞれ独立して水素原子または一価の有機基を表し、nとmはそれぞれ正の整数を表し且つ0.01≦n/(n+m)≦0.3を満たす。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)