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1. (WO2009113544) FILM FLUORESCENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM POUR CELUI-CI, FILM DIÉLECTRIQUE MULTICOUCHE, ÉLÉMENT OPTIQUE, SYSTÈME OPTIQUE, UNITÉ D'IMAGERIE, INSTRUMENT POUR MESURER LES CARACTÉRISTIQUES OPTIQUES, PROCÉDÉ DE MESURE DE CARACTÉRISTIQUES OPTIQUES, APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/113544    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054552
Date de publication : 17.09.2009 Date de dépôt international : 10.03.2009
CIB :
C09K 11/61 (2006.01), C09K 11/00 (2006.01), C09K 11/85 (2006.01), G01J 1/02 (2006.01), G02B 6/06 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
EZURA, Yoshinobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHIZAWA, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : EZURA, Yoshinobu; (JP).
ISHIZAWA, Hitoshi; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-059700 10.03.2008 JP
2008-193560 28.07.2008 JP
Titre (EN) FLUORESCENT FILM, FILM-FORMING METHOD THEREFOR, MULTILAYER DIELECTRIC FILM, OPTICAL ELEMENT, OPTICAL SYSTEM, IMAGING UNIT, INSTRUMENT FOR MEASURING OPTICAL CHARACTERISTICS, METHOD OF MEASURING OPTICAL CHARACTERISTICS, EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) FILM FLUORESCENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM POUR CELUI-CI, FILM DIÉLECTRIQUE MULTICOUCHE, ÉLÉMENT OPTIQUE, SYSTÈME OPTIQUE, UNITÉ D'IMAGERIE, INSTRUMENT POUR MESURER LES CARACTÉRISTIQUES OPTIQUES, PROCÉDÉ DE MESURE DE CARACTÉRISTIQUES OPTIQUES, APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 蛍光膜、蛍光膜の成膜方法、誘電体多層膜、光学素子、光学系、撮像ユニット、光学特性計測装置、光学特性測定方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a fluorescent film including a base material, which comprises a UV-permeable fluoride, and an activator with which the base material is doped. The fluorescent film is characterized in that the activator contains a transition element or a rare earth element, and that fluorescence is generated when the activator in the base material is exposed to ultraviolet light. Further provided are a multilayer dielectric film having the fluorescent film, as well as an optical element using the fluorescent film, an imaging apparatus, an instrument for measuring optical characteristics, an exposure apparatus, an exposure method, and a device manufacturing method.
(FR)La présente invention concerne un film fluorescent comprenant un matériau de base, qui comprend un fluorure perméable aux UV, et un activateur avec lequel le matériau de base est dopé. Le film fluorescent est caractérisé en ce que l'activateur contient un élément de transition ou un élément terre rare, et qu'une fluorescence est générée lorsque l'activateur dans le matériau de base est exposé à la lumière ultraviolette. L'invention concerne en outre un film diélectrique multicouche comportant le film fluorescent, ainsi qu'un élément optique utilisant le film fluorescent, une unité d'imagerie, un instrument pour mesurer les caractéristiques optiques, un appareil d'exposition, un procédé d'exposition, et un procédé de fabrication de dispositif.
(JA) 紫外線を透過可能なフッ化物からなる母材と、該母材にドープされた賦活材とを含み、前記賦活材は遷移元素又は希土類元素を含み、前記母材中で前記紫外線が照射されることで蛍光を発することを特徴とする蛍光膜および、該蛍光膜を有する誘電体多層膜、および該蛍光膜を利用した光学素子、撮像装置、光学特性計測装置、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)