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1. (WO2009113508) NOUVEAU SEL AYANT UNE STRUCTURE DE CARBANION CONTENANT DU FLUOR, DÉRIVÉ DE CELUI-CI, GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE, MATIÈRE DE RÉSIST UTILISANT LE GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/113508    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054479
Date de publication : 17.09.2009 Date de dépôt international : 10.03.2009
CIB :
C07C 317/18 (2006.01), C07C 381/12 (2006.01), C08F 20/26 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi, 7550001 (JP) (Tous Sauf US).
NAGAMORI, Masashi; (US Seulement).
NARIZUKA, Satoru; (US Seulement).
INOUE, Susumu; (US Seulement).
KUME, Takashi; (US Seulement)
Inventeurs : NAGAMORI, Masashi; .
NARIZUKA, Satoru; .
INOUE, Susumu; .
KUME, Takashi;
Mandataire : HASHIMOTO, Takeshi; c/o Shiga Patent Office, Ekisaikai Bldg.o, 1-29, Akashi-cho, Chuo-ku, Tokyo 1040044 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-064861 13.03.2008 JP
Titre (EN) NOVEL SALT HAVING FLUORINE-CONTAINING CARBANION STRUCTURE, DERIVATIVE THEREOF, PHOTOACID GENERATOR, RESIST MATERIAL USING THE PHOTOACID GENERATOR, AND PATTERN FORMING METHOD
(FR) NOUVEAU SEL AYANT UNE STRUCTURE DE CARBANION CONTENANT DU FLUOR, DÉRIVÉ DE CELUI-CI, GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE, MATIÈRE DE RÉSIST UTILISANT LE GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF
(JA) 新規含フッ素カルバニオン構造を有する塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is an acid having a fluorine-containing carbanion structure or a salt having a fluorine-containing carbanion structure, which is represented by general formula (1). By using a photoacid generator for chemically amplified resist materials, which generates the acid, there can be obtained a photoacid generator which is highly sensitive to ArF excimer laser light and the like and generates an acid (photoacid) having sufficiently high acidity. The photoacid generator exhibits high solubility in resist solvents, while having excellent compatibility with resins. A resist material containing the photoacid generator is also disclosed.
(FR)L'invention porte sur un acide ayant une structure de carbanion contenant du fluor ou sur un sel ayant une structure de carbanion contenant du fluor, qui est représenté par la formule générale (1). A l'aide d'un générateur de photoacide pour des matières de résist amplifiées chimiquement, qui génère l'acide, on peut obtenir un générateur de photoacide qui est hautement sensible à la lumière du laser excimère ArF et similaire et qui génère un acide (photoacide) ayant une acidité suffisamment élevée. Le générateur de photoacide présente une solubilité élevée dans les solvants de résist, tout en ayant une excellente compatibilité avec les résines. L'invention porte également sur une matière de résist contenant le générateur de photoacide.
(JA) 下記一般式(1)で示される含フッ素カルバニオン構造を有する酸もしくは含フッ素カルバニオン構造を有する塩が提供される。 この酸を発生させる化学増幅レジスト材料用の光酸発生剤を使用することによって、ArFエキシマレーザー光等に対して高感度で、発生する酸(光発生酸)の酸性度が十分高く、かつ、レジスト溶剤に対する高い溶解性及び樹脂に対する優れた相溶性を有する光酸発生剤及び、そのような光酸発生剤を含有するレジスト材料を提供できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)