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1. (WO2009113322) GROUPE PROTECTEUR PHOTODISSOCIABLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/113322    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/050102
Date de publication : 17.09.2009 Date de dépôt international : 08.01.2009
CIB :
C07D 335/06 (2006.01), C07D 409/04 (2006.01), C07F 9/6553 (2006.01), C07H 13/12 (2006.01), C07J 33/00 (2006.01)
Déposants : NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION NARA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 8916-5, Takayama-cho, Ikoma-shi, Nara, 6300192 (JP) (Tous Sauf US).
KAKIUCHI, Kiyomi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TSUTSUMI, Ken [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KITANI, Satoru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUGAWARA, Kazuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
GOSYO, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAKIUCHI, Kiyomi; (JP).
TSUTSUMI, Ken; (JP).
KITANI, Satoru; (JP).
SUGAWARA, Kazuki; (JP).
GOSYO, Yoshinori; (JP)
Mandataire : Saegusa & Partners; Kitahama TNK Building, 1-7-1, Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka, 5410045 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-061795 11.03.2008 JP
Titre (EN) PHOTODISSOCIABLE PROTECTIVE GROUP
(FR) GROUPE PROTECTEUR PHOTODISSOCIABLE
(JA) 光解離性保護基
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a photodissociable protective group which can be eliminated from the protection site under mild conditions with light irradiation. Specifically, a method is provided which comprises using the photodissociable protective group to protect a reactive functional group (e.g., a hydroxy, amino, carboxyl, carbonyl, or phosphoric diester group) and thereafter eliminating the photodissociable protective group from the protection site under neutral conditions by light irradiation only. Also provided are: a compound which is represented by general formula (3); and a method of protecting an amino or another group with the compound and of eliminating the protection. (3) (In the formula, Ar1 represents an optionally substituted (hetero)aromatic ring; Ar2 represents optionally substituted (hereto)aryl; X represents a leaving group; and n is an integer of 1 or 2.)
(FR)L'invention concerne un groupe protecteur photodissociable qui peut être éliminé du site de protection en conditions douces par exposition à de la lumière. L'invention concerne spécifiquement un procédé qui comprend l'utilisation du groupe protecteur photodissociable pour protéger un groupe fonctionnel réactif (p. ex. un groupe hydroxy, amino, carboxyle, carbonyle ou diester phosphorique), puis l'élimination du groupe protecteur photodissociable du site de protection en conditions neutres, uniquement par exposition à de la lumière. L'invention concerne également : un composé qui est représenté par la formule générale (3) ; et un procédé de protection d'un groupe amino ou autre avec le composé et d'élimination de la protection. (3) (Dans la formule, Ar1 représente un cycle (hétéro)aromatique éventuellement substitué ; Ar2 représente un (hétéro)aryle éventuellement substitué ; X représente un groupe partant ; et n est un entier de 1 ou 2.)
(JA) 本発明は、光照射下の穏和な条件下で脱保護できる光解離性保護基を提供することにある。具体的には、該光解離性保護基を用いて反応性官能基(例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、カルボニル基、リン酸ジエステル基等)を保護した後、中性条件下、光照射のみで該光解離性保護基を脱保護する方法を提供する。  一般式(3): (式中、Arは置換基を有してもよい芳香環又はヘテロ芳香環、Arは置換基を有してもよいアリール基又はヘテロアリール基、Xは脱離基、nは1又は2の整数を示す。)で表される化合物、並びに該化合物を用いたアミノ基等の保護及び脱保護方法に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)