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1. (WO2009112261) PROCÉDÉ POUR FABRIQUER UNE SURFACE EN SILICIUM AYANT UNE TEXTURE PYRAMIDALE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/112261    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/001784
Date de publication : 17.09.2009 Date de dépôt international : 12.03.2009
CIB :
H01L 31/0236 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Déposants : RENA GMBH [DE/DE]; Ob der Eck 5, 78148 Gütenbach (DE) (Tous Sauf US).
SCHWECKENDIEK, Jürgen [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ELJAOUHARI, Ahmed, abdelbar [MA/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : SCHWECKENDIEK, Jürgen; (DE).
ELJAOUHARI, Ahmed, abdelbar; (DE)
Mandataire : GASSNER, Wolfgang; Gassner & Partner Marie-Curie-Str. 1 91052 Erlangen (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2008 014 166.6 14.03.2008 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER SILIZIUMOBERFLÄCHE MIT PYRAMIDALER TEXTUR
(EN) METHOD FOR MANUFACTURING A SILICON SURFACE WITH PYRAMIDAL STRUCTURE
(FR) PROCÉDÉ POUR FABRIQUER UNE SURFACE EN SILICIUM AYANT UNE TEXTURE PYRAMIDALE
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Siliziumoberfläche mit pyramidaler Textur, bei dem ein die Siliziumoberfläche aufweisender Silizium-Wafer in eine Ätzlösung getaucht wird. Zur Erzeugung einer möglichst homogenen pyramidalen Textur wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die Siliziumoberfläche vor dem Inkontaktbringen mit der Ätzlösung mit Ozon behandelt wird.
(EN)The invention relates to a method for manufacturing a silicon surface with a pyramidal structure, in which a silicon wafer containing the silicon surface is dipped into an etching solution. To produce a pyramidal structure that is as homogeneous as possible, according to the invention it is proposed that the silicon surface be treated with ozone prior to coming into contact with the etching solution.
(FR)L’invention concerne un procédé pour fabriquer une surface en silicium ayant une texture pyramidale avec lequel une tranche de silicium présentant une surface en silicium est plongée dans une solution corrosive. Selon l’invention, il est proposé pour générer une texture pyramidale la plus homogène possible que la surface en silicium soit traitée avec de l’ozone avant d’être mise en contact avec la solution corrosive.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)