WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2009111054) CONFINEMENT DE SOLUTION PENDANT LE DÉPÔT D’UNE COUCHE TAMPON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/111054    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/001429
Date de publication : 11.09.2009 Date de dépôt international : 04.03.2009
CIB :
H01L 31/00 (2006.01)
Déposants : GLOBAL SOLAR ENERGY, INC. [US/US]; 8500 S. Rita Road Tucson, AZ 85747 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : BRITT, Jeffrey, S.; (US).
ALBRIGHT, Scot; (US).
SCHOOP, Urs; (US)
Mandataire : KOLITCH, Shawn, J.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/068,458 05.03.2008 US
Titre (EN) SOLUTION CONTAINMENT DURING BUFFER LAYER DEPOSITION
(FR) CONFINEMENT DE SOLUTION PENDANT LE DÉPÔT D’UNE COUCHE TAMPON
Abrégé : front page image
(EN)Improved methods and apparatus for forming thin-film layers of chalcogenide on a substrate web. Solutions containing the reactants for the chalcogenide layer may be contained substantially to the front surface of the web, controlling the boundaries of the reaction and avoiding undesired deposition of chalcogenide upon the back side of the web.
(FR)L’invention concerne des procédés et appareils améliorés pour former des couches minces pelliculaires de chalcogénure sur un réseau de substrat. Les solutions contenant les réactifs pour la couche de chalcogénure peuvent être confinées sensiblement au niveau de la surface avant du réseau, ceci contrôlant les limites de la réaction et évitant le dépôt indésirable de chalcogénure sur l’arrière du réseau.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)