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1. (WO2009111022) DÉRIVÉS D'ÉTHER DE CELLULOSE MODIFIÉS POUR CULTURE ET LIBÉRATION DE CELLULES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/111022    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/001371
Date de publication : 11.09.2009 Date de dépôt international : 04.03.2009
CIB :
C08B 11/20 (2006.01), C12N 5/00 (2006.01)
Déposants : CORNING INCORPORATED [US/US]; 1 Riverfront Plaza Corning, NY 14831 (US) (Tous Sauf US).
BAKER, Wendy, A [US/US]; (US) (US Seulement).
BOOKBINDER, Dana, C [US/US]; (US) (US Seulement).
CHANG, Theresa [US/US]; (US) (US Seulement).
HANCOCK, Robert, R [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BAKER, Wendy, A; (US).
BOOKBINDER, Dana, C; (US).
CHANG, Theresa; (US).
HANCOCK, Robert, R; (US)
Mandataire : HAACK, John, L; (US)
Données relatives à la priorité :
61/068,576 07.03.2008 US
Titre (EN) HYDROPHOBICALLY MODIFIED CELLULOSE ETHER DERIVATIVES FOR CELL CULTURE AND RELEASE
(FR) DÉRIVÉS D'ÉTHER DE CELLULOSE MODIFIÉS POUR CULTURE ET LIBÉRATION DE CELLULES
Abrégé : front page image
(EN)Hydrophobically modified polysaccharide compositions, articles incorporating the compositions, and methods for cell culture, automatic release of cells, and release of cell culture coating from a substrate or the cell culture articles incorporating the coating compositions, the polysaccharide being a cellulose ether.
(FR)La présente invention concerne des compositions de polysaccharide hydrophobiquement modifiées, des articles incorporant lesdites compositions, et des procédés de culture cellulaire, de libération automatique de cellules, et de libération de revêtement de culture cellulaire d’un substrat ou des articles de culture cellulaire incorporant les compositions de revêtement, le polysaccharide étant un éther de cellulose.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)