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1. (WO2009110764) COMPOSITION DE POLYIMIDE PHOTOSENSIBLE POSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/110764    N° de la demande internationale :    PCT/KR2009/001121
Date de publication : 11.09.2009 Date de dépôt international : 06.03.2009
CIB :
G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 20, Yoido-dong, Youngdungpo-gu, Seoul, 150-721 (KR) (Tous Sauf US).
SEONG, Hye-Ran [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
PARK, Chan-Hyo [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
OH, Dong-Hyun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
SHIN, Hye-In [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Kyung-Jun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
SHIN, Se-Jin [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : SEONG, Hye-Ran; (KR).
PARK, Chan-Hyo; (KR).
OH, Dong-Hyun; (KR).
SHIN, Hye-In; (KR).
KIM, Kyung-Jun; (KR).
SHIN, Se-Jin; (KR)
Mandataire : HANYANG PATENT FIRM; 9F Keungil Tower, 677-25 Yeoksam-dong, Gangnam-gu, Seoul, 135-914 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2008-0021535 07.03.2008 KR
Titre (EN) POSITIVE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE POLYIMIDE PHOTOSENSIBLE POSITIF
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a positive photosensitive polyimide composition that includes polyimide, a polyamic acid, and a photoactive compound. An organic insulating layer for organic light-emitting devices (OLED), which includes the positive photosensitive polyimide composition, may control a taper angle and outgassing, and has excellent adhesion in respects to a substrate, water repellent control ability, and storage stability and the like.
(FR)La présente invention concerne une composition de polyimide photosensible positif qui comprend un polyimide, un acide polyamique et un composé photo-actif. Une couche isolante organique pour des dispositifs émettant de la lumière organique (OLED), qui comprend la composition de polyimide photosensible positif, peut réguler un angle d'inclinaison et un dégagement de gaz, et présente une excellente adhérence en ce qui concerne un substrat, une propriété hydrophobe pouvant être régulée, une stabilité au stockage et autre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)