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1. (WO2009110548) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE NETTOYAGE DE COMPOSANT ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/110548    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054167
Date de publication : 11.09.2009 Date de dépôt international : 05.03.2009
CIB :
B08B 3/08 (2006.01), B08B 3/02 (2006.01), B08B 3/04 (2006.01), B08B 3/10 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : DU PONT-MITSUI FLUOROCHEMICALS CO., LTD. [JP/JP]; 3600, Miho, Shimizu-ku, Shizuoka-shi, Shizuoka, 4248631 (JP) (Tous Sauf US).
KIKUCHI, Hideaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KIKUCHI, Hideaki; (JP)
Mandataire : NOGAWA, Shintaro; Nogawa Patent Office, Nishitenma Five Bldg., 16-3, Nishitenma 5-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-058429 07.03.2008 JP
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR WASHING ELECTRONIC COMPONENT
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE NETTOYAGE DE COMPOSANT ÉLECTRONIQUE
(JA) 電子部品の洗浄方法および洗浄システム
Abrégé : front page image
(EN)A method of washing electronic components comprises a purifying step of purifying an unused fluorine-containing organic detergent composition liquid by a purifier and a washing step of washing electronic components using the purified detergent composition liquid supplied from the purifier into a washing device. In the purifying step, at least the organic contaminants are removed by a rectifying device and solid contaminants are removed by a filter device.
(FR)Le procédé selon l'invention pour nettoyer des composants électroniques comprend une étape de purification d'un liquide non utilisé de composition détergente organique contenant du fluor par un purificateur et une étape de nettoyage de composants électroniques au moyen du liquide de composition détergente purifié distribué par le purificateur dans un dispositif de nettoyage. Dans l'étape de purification, au moins les contaminants organiques sont retirés par un dispositif de rectification et les contaminants solides sont retirés par un dispositif de filtrage.
(JA) 精製装置によって未使用のフッ素含有有機洗浄剤組成物液を精製する精製工程と、精製装置から洗浄装置内へ供給された精製後の洗浄剤組成物液を用いて電子部品を洗浄する洗浄工程とを含み、前記精製工程で、精留装置による有機性汚染物の除去およびフィルター装置による固体汚染物の除去が少なくとも行われる電子部品の洗浄方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)