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1. (WO2009110503) POLYMÈRE, COMPOSITION DE RÉSINE DURCISSABLE, PRODUIT DURCI ET ARTICLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/110503    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054063
Date de publication : 11.09.2009 Date de dépôt international : 04.03.2009
CIB :
C08F 220/28 (2006.01), C08F 234/02 (2006.01), C08F 290/14 (2006.01)
Déposants : Nippon Shokubai Co., Ltd. [JP/JP]; 4-1-1, Koraibashi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka, 5410043 (JP) (Tous Sauf US).
MATSUDA, Yasuhiro; (US Seulement).
KONOSU, Osamu; (US Seulement)
Inventeurs : MATSUDA, Yasuhiro; .
KONOSU, Osamu;
Mandataire : KOHNO, Takao; KOHNO PATENT OFFICE, 4-3, Tsuriganecho 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-055307 05.03.2008 JP
Titre (EN) POLYMER, CURABLE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT, AND ARTICLE
(FR) POLYMÈRE, COMPOSITION DE RÉSINE DURCISSABLE, PRODUIT DURCI ET ARTICLE
(JA) 重合体、硬化性樹脂組成物、硬化物、及び物品
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a polymer having a radically polymerizable unsaturated group in a side chain. The polymer can have an appropriate molecular design in accordance with the purpose thereof. Also disclosed is a curable resin composition containing the polymer, which enables formation of a cured film having high hardness after curing or formation of a cured product that hardly suffers from warping. Further disclosed are a cured product and an article obtained by laminating the cured products. Specifically disclosed is a polymer (A) obtained by polymerizing at least a vinyl monomer represented by general formula (1) and a cyclic ether compound represented by general formula (2). The polymer (A) is preferably obtained by polymerizing not less than 1% by mass but not more than 99.9% by mass of the vinyl monomer represented by general formula (1), not less than 0.1% by mass but not more than 99% by mass of the cyclic ether compound represented by general formula (2), and not less than 0% by mass but not more than 98.9% by mass of another cationically polymerizable monomer. [In the formula, R1 represents an alkylene group having 2-8 carbon atoms; R2 represents a hydrogen atom or a methyl group; and m represents a positive integer.]
(FR)L'invention porte sur un polymère possédant un groupe insaturé polymérisable par voie radicalaire dans une chaîne latérale. Le polymère peut présenter un motif moléculaire approprié selon son objectif. L'invention porte également sur une composition de résine durcissable contenant le polymère qui permet la formation d'un film durci présentant une dureté élevée après durcissement ou formation d'un produit durci qui ne souffre guère de gauchissement. De plus, l'invention porte sur un produit durci et un article obtenu par laminage des produits durcis. De façon spécifique, l'invention porte sur un polymère (A) obtenu par polymérisation d'au moins un monomère vinylique représenté par la formule générale (1) et un composé éther cyclique représenté par la formule générale (2). Le polymère (A) est, de préférence, obtenu par polymérisation de pas moins de 1 % en masse mais de pas plus de 99,9 % en masse du monomère vinylique représenté par la formule générale (1), pas moins de 0,1 % en masse mais pas plus de 99 % en masse du composé éther cyclique représenté par la formule générale (2), et pas moins de 0 % en masse mais pas plus de 98,9 % en masse d'un autre monomère polymérisable par voie cationique. (1) [Dans la formule, R1 représente un groupe alkylène possédant 2 à 8 atomes de carbone; R2 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle; et m représente un entier positif.]
(JA) 側鎖にラジカル重合可能な不飽和基を有し、目的に応じた分子設計が可能である重合体、該重合体を含有し、硬化後の塗膜の硬度が高く、反り等が生じにくい硬化物を与えることができる硬化性樹脂組成物、硬化物、及び該硬化物を積層してなる物品を提供する。  本発明の重合体(A)は、少なくとも下記一般式(1)で表されるビニル系単量体と、下記一般式(2)で表される環状エーテル化合物とを重合してなる。重合体(A)は、好適には一般式(1)で表わされるビニル系単量体を1質量%以上99.9質量%以下と、一般式(2)で表される環状エーテル化合物を0.1質量%以上99質量%以下と、その他のカチオン重合可能な単量体を0質量%以上98.9質量%以下とを重合してなる。[式(1)中、Rは炭素数2~8のアルキレン基、Rは水素原子又はメチル基、mは正の整数である] [式(2)中、nは1~5の整数である]
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)