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1. (WO2009110371) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE NANOPARTICULES INORGANIQUES DANS L'AIR ET DISPOSITIF ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/110371    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/053561
Date de publication : 11.09.2009 Date de dépôt international : 26.02.2009
CIB :
C23C 4/00 (2006.01), B22F 9/14 (2006.01), C23C 4/08 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01)
Déposants : NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 3-1, Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo, 1008921 (JP) (Tous Sauf US).
SHIMIZU, Yoshiki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SASAKI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOSHIZAKI, Naoto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TERASHIMA, Kazuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIMIZU, Yoshiki; (JP).
SASAKI, Takeshi; (JP).
KOSHIZAKI, Naoto; (JP).
TERASHIMA, Kazuo; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-053193 04.03.2008 JP
Titre (EN) METHOD FOR THE MANUFACTURE OF INORGANIC NANOPARTICLES IN AIR AND DEVICE THEREFOR
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE NANOPARTICULES INORGANIQUES DANS L'AIR ET DISPOSITIF ASSOCIÉ
(JA) 大気中での無機ナノ粒子の作製方法及びそのための装置
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are a method and a device for the manufacture of nanoparticles of a low-melting-point material, such as gold, etc., at more than 10 times the rate of the prior art, with which the time-averaged temperature of pulse-modulated atmospheric-pressure plasma is kept at a low enough temperature that thermally weak material arranged downstream is not damaged. The method for manufacturing said nanoparticles of low-melting-point inorganic material, wherein a wire made from low-melting-point inorganic material is inserted into a plasma-generating capillary tube or plasma-generating nozzle and an atmospheric-pressure high-frequency plasma is generated inside said capillary tube or nozzle, is characterized by generating the aforementioned plasma by applying a high-frequency voltage that possesses a waveform that exhibits its maximum value when it rises and then immediately falls, and which is pulse-modulated so that the duty ratio thereof is 10% or less.
(FR)Cette invention concerne un procédé et un dispositif permettant de fabriquer des nanoparticules à partir d'un matériau à point de fusion bas, entre autres l'or, à une vitesse supérieure à 10 fois celle de l'art antérieur, et permettant de maintenir la moyenne temporelle des températures du plasma à pression atmosphérique modulé par impulsions à une température suffisamment basse pour que le matériau thermiquement faible en aval ne soit pas altéré. Le procédé de fabrication desdites nanoparticules de matériau inorganique à point de fusion bas, qui consiste à insérer un fil constitué du matériau à point de fusion bas dans un tube capillaire à plasma ou une buse à plasma, et à générer un plasma à haute fréquence et à forte pression atmosphérique à l'intérieur dudit tube capillaire ou de ladite buse, se caractérise par la génération dudit plasma en appliquant une tension haute fréquence qui possède une longueur d'onde présentant sa valeur maximale lorsqu'elle augmente puis diminue immédiatement et qui est modulé par impulsions de sorte que le facteur de marche soit inférieur ou égal à 10 %.
(JA) パルス変調した大気圧プラズマの時間平均温度を、下流に設置した熱に弱い材料を破損しない程の低温に保ったまま、従来技術の10倍以上の速度で、金などの低融点材料のナノ粒子を作製する方法及びそのための装置を提供するものであって、プラズマ発生用細管内又はプラズマ発生用ノズル内に低融点無機材料からなるワイヤーを挿入するとともに、該細管内又はノズル内に大気圧高周波プラズマを発生させることにより、該低融点無機材料のナノ粒子を作製する方法において、立ち上がり時に最大値を示すとともに直ちに立ち下がる波形を有し、そのDuty比が10%以下となるようにパルス変調させた高周波電圧を印加して前記プラズマを発生させることを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)