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1. (WO2009110226) UNITÉ D'ANTENNE HAUTE FRÉQUENCE ET APPAREIL DE TRAITEMENT DE PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/110226    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/000956
Date de publication : 11.09.2009 Date de dépôt international : 03.03.2009
CIB :
H05H 1/46 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : EMD Corporation [JP/JP]; 36, Dounoushiro-cho, Ishihara, Kisshouin, Minami-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6018355 (JP) (Tous Sauf US).
SETSUHARA, Yuichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
EBE, Akinori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SETSUHARA, Yuichi; (JP).
EBE, Akinori; (JP)
Mandataire : KOBAYASI, Ryohei; Kyoto International Patent Law Office Hougen-Sizyokarasuma Building 37, Motoakuozi-tyo, Higasinotouin Sizyo-sagaru Simogyo-ku, Kyoto-si, Kyoto 6008091 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-054532 05.03.2008 JP
Titre (EN) HIGH FREQUENCY ANTENNA UNIT AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) UNITÉ D'ANTENNE HAUTE FRÉQUENCE ET APPAREIL DE TRAITEMENT DE PLASMA
(JA) 高周波アンテナユニット及びプラズマ処理装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a high frequency antenna unit which can generate high-density discharge plasma in a vacuum container. The high frequency antenna unit is provided with a high-frequency antenna (11) which makes a high-frequency current to flow; a protection tube (12), which is arranged on the circumference of a part that exists on the high frequency antenna portion in the vacuum container; and a buffer region (13) arranged between the high-frequency antenna (11) and the protection tube (12). The 'buffer region' is a region that suppresses acceleration of electrons, and is formed of, for instance, vacuum or an insulator. Thus, since generation of electrical discharge between the antenna (11) and the protection tube (12) can be suppressed, high-density discharge plasma can be generated in the vacuum container.
(FR)Cette invention se rapporte à une unité d'antenne haute fréquence qui peut générer un plasma de décharge à haute densité dans un contenant sous vide. L'unité d'antenne haute fréquence est dotée d'une antenne haute fréquence (11) qui fait circuler un courant à haute fréquence ; d'un tube de protection (12), qui est agencé sur la circonférence d'une partie qui existe sur la partie d'antenne haute fréquence dans le contenant sous vide ; et d'une région tampon (13) agencée entre l'antenne haute fréquence (11) et le tube de protection (12). La « région tampon » est une région qui supprime l'accélération des électrons, et est constituée, par exemple, de vide ou d'un isolant. Ainsi, étant donné qu'il est possible de supprimer la génération d'une décharge électrique entre l'antenne (11) et le tube de protection (12), il est possible de générer un plasma de décharge à haute densité dans le contenant sous vide.
(JA) 本発明は、真空容器内に高密度な放電プラズマを生成することができる高周波アンテナユニットを提供することを目的としている。本発明に係る高周波アンテナユニットは、高周波電流を流すための高周波アンテナ11と、高周波アンテナのうち真空容器内に存在する部分の周囲に設けられた絶縁体製の保護管12と、前記高周波アンテナ11と前記保護管12の間の緩衝領域13と、を備えることを特徴としている。ここで「緩衝領域」とは電子の加速を抑制する領域を意味し、例えば真空あるいは絶縁体により形成することができる。このような構成により、アンテナ11と保護管12の間で放電が生じることを抑制することができるため、真空容器内に高密度な放電プラズマを生成することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)