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1. (WO2009110162) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE NANOSTRUCTURES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/110162    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/000062
Date de publication : 11.09.2009 Date de dépôt international : 09.01.2009
CIB :
B29C 59/02 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01), G11B 7/26 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), B29L 9/00 (2006.01)
Déposants : DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; MAINICHI INTECIO. 3-4-5, Umeda, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka, 5300001 (JP) (Tous Sauf US).
MIYAKE, Hiroto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IYOSHI, Shuso [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MIYAKE, Hiroto; (JP).
IYOSHI, Shuso; (JP)
Mandataire : GOTO, Yukihisa; Minamimorimachi Kyodo Bldg. 2nd Floor, 2-18 Kobai-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka, 5300038 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-052612 03.03.2008 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCTION OF NANOSTRUCTURES
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE NANOSTRUCTURES
(JA) 微細構造物の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A process for production of nanostructures by subjecting a photocurable resin composition for nanoimprinting to nanoimprinting, which comprises the step (1) of forming a coating out of a photocurable resin composition for nanoimprinting which contains a curable compound component comprising a cationically polymerizable compound and/or a radical-polymerizable compound on a substrate and imprinting a pattern on the coating by pressing with a nanostamper at a pressure of 5 to 100MPa and the step (2) of curing the resulting coating to form a nanostructure.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication de nanostructures par la soumission d'une composition de résine photodurcissable pour nanoimpression à une nanoimpression, qui comprend l'étape (1) de formation d'un revêtement à partir d'une composition de résine photodurcissable pour nanoimpression qui contient un composant de composé durcissable comprenant un composé polymérisable par polymérisation cationique et/ou un composé polymérisable par polymérisation par radicaux sur un substrat et impression d'un motif sur le revêtement par pression au moyen d'un nanopoinçon à une pression de 5 à 100 Mpa, et l'étape (2) de durcissement du revêtement résultant pour former une nanostructure.
(JA) (1)カチオン重合性化合物及び/又はラジカル重合性化合物を含む硬化性化合物を含有するナノインプリント用光硬化性樹脂組成物からなる被膜が、支持体上に形成され、かつナノスタンパを用いた5~100MPaの圧力のプレスによりパターンを転写される工程、及び(2)パターンが転写された被膜を硬化させて微細構造物を得る工程を含む、ナノインプリント用光硬化性樹脂組成物にナノインプリント加工を施して微細構造物を得る微細構造物の製造方法を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)