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1. (WO2009110046) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UNE PIÈCE DE TRAVAIL AYANT UNE COUCHE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/110046    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/003762
Date de publication : 11.09.2009 Date de dépôt international : 15.12.2008
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G03F 7/36 (2006.01), G11B 7/26 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo, 1068620 (JP) (Tous Sauf US).
USAMI, Yoshihisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : USAMI, Yoshihisa; (JP)
Mandataire : OGAWA, Keisuke; c/o OGAWA PATENT & TRADEMARK, 5th Floor, Futaba Kudan Building, 4-5, Kudanminami 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1020074 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-055611 05.03.2008 JP
Titre (EN) METHOD FOR PROCESSING WORK HAVING PHOTORESIST LAYER
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UNE PIÈCE DE TRAVAIL AYANT UNE COUCHE PHOTOSENSIBLE
(JA) フォトレジスト層を有するワークの加工方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for processing work (10) having a photoresist layer (12) by using an exposure apparatus (30). Specifically, a transparent sheet (20), which is capable of transmitting the light emitted by the exposure apparatus (30), is placed between an objective lens (35a) of the exposure apparatus (30) and the photoresist layer (12), and the photoresist layer (12) is exposed through the transparent sheet (20).
(FR)La présente invention concerne un procédé de traitement d'une pièce de travail (10) ayant une couche photosensible (12) à l'aide d'un appareil d'exposition (30). Plus précisément, une feuille transparente (20) pouvant transmettre la lumière émise par l'appareil d'exposition (30) est placée entre une lentille d'objectif (35a) de l'appareil d'exposition (30) et la couche photosensible (12), et la couche photosensible (12) est exposée à travers la feuille transparente (20).
(JA) 露光装置(30)を用いてフォトレジスト層(12)を有するワーク(10)を加工する加工方法である。露光装置(30)の対物レンズ(35a)とフォトレジスト層(12)との間に、露光装置(30)が発する光を透過可能な透明シート(20)を配置し、この透明シート(20)を通してフォトレジスト層(12)を露光する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)