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1. (WO2009108568) PLAQUE ÉGALISATRICE DE DÉBIT DE GAZ CONVENANT À UNE UTILISATION DANS UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2009/108568 N° de la demande internationale : PCT/US2009/034533
Date de publication : 03.09.2009 Date de dépôt international : 19.02.2009
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01)
Déposants : BALAKRISHNA, Ajit[US/US]; US (UsOnly)
RAUF, Shahid[US/US]; US (UsOnly)
NGUYEN, Andrew[US/US]; US (UsOnly)
WILLWERTH, Michael D.[US/US]; US (UsOnly)
TODOROW, Valentin D.[US/US]; US (UsOnly)
APPLIED MATERIALS, INC.[US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US (AllExceptUS)
Inventeurs : BALAKRISHNA, Ajit; US
RAUF, Shahid; US
NGUYEN, Andrew; US
WILLWERTH, Michael D.; US
TODOROW, Valentin D.; US
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; Patterson & Sheridan, L.L.P. 3040 Post Oak Blvd., Suite 1500 Houston, Texas 77056-6582, US
Données relatives à la priorité :
12/038,88728.02.2008US
Titre (EN) GAS FLOW EQUALIZER PLATE SUITABLE FOR USE IN A SUBSTRATE PROCESS CHAMBER
(FR) PLAQUE ÉGALISATRICE DE DÉBIT DE GAZ CONVENANT À UNE UTILISATION DANS UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN) A flow equalizer plate is provided for use in a substrate process chamber. The flow equalizer plate has an annular shape with a flow obstructing inner region, and a perforated outer region that permits the passage of a processing gas, but retains specific elements in the processing gas, such as active radicals or ions. The inner and outer regions have varying radial widths so as to balance a flow of processing gas over a surface of a substrate. In certain embodiments, the flow equalizer plate may be utilized to correct chamber flow asymmetries due to a lateral offset of an exhaust port relative to a center line of a substrate support between the process volume and the exhaust port.
(FR) L'invention concerne une plaque égalisatrice de débit destinée à être utilisée dans une chambre de traitement de substrat. La plaque égalisatrice de débit présente une forme annulaire comprenant une région intérieure bloquant l’écoulement et une région extérieure perforée qui permet le passage d’un gaz de traitement, mais retient des éléments spécifiques du gaz de traitement, comme des radicaux actifs ou des ions. Les régions intérieure et extérieure présentent des largeurs radiales variables de façon à équilibrer un débit de gaz de traitement sur la surface d’un substrat. Dans certains modes de réalisation, la plaque égalisatrice de débit peut être utilisée pour corriger des asymétries de débit dans la chambre dues à un décalage latéral d’un orifice d’échappement par rapport à un axe médian d’un support de substrat entre le volume de traitement et l’orifice d’échappement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)