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1. (WO2009108543) SYSTÈME D'EXPOSITION MULTIPHOTONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/108543    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/034287
Date de publication : 03.09.2009 Date de dépôt international : 17.02.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center Post Office Box 33427 Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US) (Tous Sauf US).
DAVOE, Robert, J. [US/US]; (US) (US Seulement).
GATES, Brian, J. [US/US]; (US) (US Seulement).
FAKLIS, Dean [US/US]; (US) (US Seulement).
KRASA, Robert, T. [US/US]; (US) (US Seulement).
MARKOWICZ, Przemyslaw, P. [PL/US]; (US) (US Seulement).
SYKORA, Craig, R. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : DAVOE, Robert, J.; (US).
GATES, Brian, J.; (US).
FAKLIS, Dean; (US).
KRASA, Robert, T.; (US).
MARKOWICZ, Przemyslaw, P.; (US).
SYKORA, Craig, R.; (US)
Mandataire : MOSHREFZADEH, Robert, S.; 3M Center Office of Intellectual Property Counsel, Post Office Box 33427, Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US)
Données relatives à la priorité :
61/031,538 26.02.2008 US
Titre (EN) MULTI-PHOTON EXPOSURE SYSTEM
(FR) SYSTÈME D'EXPOSITION MULTIPHOTONIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An exposure system includes a light source emitting a beam along an optical axis that is capable of inducing a multi-photon reaction in a resin. The exposure system further includes a resin undergoing multiphoton reaction, as well as an automated system including a monitor that measures at least one property of the beam selected from power, pulse length, shape, divergence, or position in a plane normal to the optical axis. The monitor generates at least one signal indicative of the property of the beam, and a sub-system adjusts the beam in response to the signal from the monitor.
(FR)L'invention concerne un système d'exposition comprenant une source de lumière émettant un faisceau le long d'un axe optique capable d'induire une réaction multiphotonique dans une résine. Le système d'exposition comprend en outre une résine soumise à une réaction multiphotonique, ainsi qu'un système automatisé comprenant un moniteur qui mesure au moins une propriété du faisceau sélectionnée parmi la puissance, la longueur d'impulsion, la forme, la divergence, ou la position dans un plan normal à l'axe optique. Le moniteur génère au moins un signal indiquant la propriété du faisceau, et un sous-système ajuste le faisceau en réponse au signal provenant du moniteur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)