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1. (WO2009107870) VERRE DE SILICE CONTENANT DU TIO2 ET ÉLÉMENT OPTIQUE POUR LITHOGRAPHIE EUV UTILISANT UN TEL VERRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/107870    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054225
Date de publication : 03.09.2009 Date de dépôt international : 27.02.2009
CIB :
C03B 19/14 (2006.01), C03C 3/06 (2006.01), C03C 4/00 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
KOIKE, Akio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IWAHASHI, Yasutomi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KIKUGAWA, Shinya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TACHIBANA, Yuko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KOIKE, Akio; (JP).
IWAHASHI, Yasutomi; (JP).
KIKUGAWA, Shinya; (JP).
TACHIBANA, Yuko; (JP)
Mandataire : OGURI, Shohei; Eikoh Patent Firm, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-046267 27.02.2008 JP
Titre (EN) TIO2-CONTAINING SILICA GLASS AND OPTICAL MEMBER FOR EUV LITHOGRAPHY USING THE SAME
(FR) VERRE DE SILICE CONTENANT DU TIO2 ET ÉLÉMENT OPTIQUE POUR LITHOGRAPHIE EUV UTILISANT UN TEL VERRE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a TiO2-SiO2 glass in which when used as an optical member for an exposure tool for EUVL, a thermal expansion coefficient is substantially zero at the time of irradiation with high-EUV energy light, and physical properties of a multilayer can be kept over a long period of time by releasing hydrogen from the glass. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass having a fictive temperature of 1,100 °C or lower, a hydrogen molecule concentration of 1 x 1016 molecules/cm3 or more, and a temperature, at which a linear thermal expansion coefficient is 0 ppb/°C, falling within the range of from 40 to 110 °C.
(FR)L'invention permet d'obtenir un verre TiO2-SiO2 dont le coefficient de dilatation thermique linéaire est sensiblement égal à zéro pendant la période où le verre est soumis à un puissant rayonnement d'énergie lumineuse d'UV extrême, lorsqu'il est utilisé comme élément optique d'un instrument d'exposition destiné à une lithographie par UV extrême (EUVL), les propriétés physiques d'une matière multicouche pouvant être conservées pendant longtemps par libération de l'hydrogène du verre. L'invention concerne un verre de silice contenant du TIO2 et présentant une température fictive inférieure ou égale à 1100°C, une concentration en molécules d'hydrogène supérieure ou égale à 1x1016 molécules/cm3, et une température à laquelle le coefficient de dilatation thermique linéaire est égal à 0 partie par milliard/°C, copmprise dans une plage de températures allant de 40 à 110°C.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)