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1. (WO2009107869) VERRE DE SILICE CONTENANT DU TIO2 ET ÉLÉMENT OPTIQUE POUR LITHOGRAPHIE UTILISANT UN TEL VERRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/107869    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054223
Date de publication : 03.09.2009 Date de dépôt international : 27.02.2009
CIB :
C03C 3/06 (2006.01), C03C 4/00 (2006.01), C03B 19/14 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
KOIKE, Akio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IWAHASHI, Yasutomi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KIKUGAWA, Shinya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KOIKE, Akio; (JP).
IWAHASHI, Yasutomi; (JP).
KIKUGAWA, Shinya; (JP)
Mandataire : OGURI, Shohei; Eikoh Patent Office, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-049352 29.02.2008 JP
Titre (EN) TIO2-CONTAINING SILICA GLASS AND OPTICAL MEMBER FOR LITHOGRAPHY USING THE SAME
(FR) VERRE DE SILICE CONTENANT DU TIO2 ET ÉLÉMENT OPTIQUE POUR LITHOGRAPHIE UTILISANT UN TEL VERRE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a TiO2-SiO2 glass whose coefficient of linear thermal expansion upon irradiation with high EUV energy light is substantially zero, which is suitable as an optical member of an exposure tool for EUVL. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass having a halogen content of 100 ppm or more; a fictive temperature of 1,100 °C or lower; an average coefficient of linear thermal expansion in the range of from 20 to 100 °C of 30 ppb/°C or lower; a temperature width DT, in which a coefficient of linear thermal expansion is 0 ± 5 ppb/°C, of 5°C or greater; and a temperature, at which a coefficient of linear thermal expansion is 0 ppb/°C, falling within the range of from 30 to 150 °C.
(FR)L'invention permet d'obtenir un verre TiO2-SiO2 dont le coefficient de dilatation thermique linéaire est sensiblement égal à zéro lorsque que le verre est soumis à un rayonnement d'énergie lumineuse d'UV extrême. Ce verre est conçu pour servir d'élément optique dans un instrument d'exposition destiné à une lithographie par UV extrême (EUVL). L'invention concerne un verre de silice contenant du TIO2 et présentant une teneur en halogène supérieure ou égale à 100 ppm, une température fictive inférieure ou égale à 1100°C, un coefficient moyen de dilatation thermique linéaire inférieur ou égal à 300 parties par milliard/°C dans une plage de températures comprise entre 20 et 100°C, une plage de température DT dans laquelle un coefficient de dilatation thermique linéaire est égal à 0 ± 5 partie(s) par milliard/°C supérieure ou égale à 5°C, et une température à laquelle un coefficient de dilatation thermique linéaire est égal à 0 partie par milliard/°C, comprise entre 30 à 150°C.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)