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1. (WO2009107858) VERRE DE SILICE CONTENANT DU TIO2, ÉLÉMENT OPTIQUE POUR LITHOGRAPHIE EUV FAISANT INTERVENIR DES DENSITÉS ÉNERGÉTIQUES ÉLEVÉES, ET PROCÉDÉ COMMANDÉ PAR TEMPÉRATURE SPÉCIALE POUR LA FABRICATION D'UN TEL ÉLÉMENT OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/107858    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054106
Date de publication : 03.09.2009 Date de dépôt international : 26.02.2009
CIB :
C03C 4/00 (2006.01), C03C 3/06 (2006.01), C03C 3/076 (2006.01), C03B 19/14 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
KOIKE, Akio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAITO, Kenta [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHAO, Long [CN/JP]; (JP) (US Seulement).
IWAHASHI, Yasutomi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KIKUGAWA, Shinya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KOIKE, Akio; (JP).
SAITO, Kenta; (JP).
SHAO, Long; (JP).
IWAHASHI, Yasutomi; (JP).
KIKUGAWA, Shinya; (JP)
Mandataire : OGURI, Shohei; Eikoh Patent Firm, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo, 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-044811 26.02.2008 JP
Titre (EN) TIO2-CONTAINING SILICA GLASS AND OPTICAL MEMBER FOR EUV LITHOGRAPHY USING HIGH ENERGY DENSITIES AS WELL AS SPECIAL TEMPERATURE CONTROLLED PROCESS FOR ITS MANUFACTURE
(FR) VERRE DE SILICE CONTENANT DU TIO2, ÉLÉMENT OPTIQUE POUR LITHOGRAPHIE EUV FAISANT INTERVENIR DES DENSITÉS ÉNERGÉTIQUES ÉLEVÉES, ET PROCÉDÉ COMMANDÉ PAR TEMPÉRATURE SPÉCIALE POUR LA FABRICATION D'UN TEL ÉLÉMENT OPTIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a TiO2-SiO2 glass whose coefficient of linear thermal expansion in the range of the time of irradiation with EUV light is substantially zero when used as an optical member of an exposure tool for EUVL and which has extremely high surface smoothness. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass having a TiO2 content of from 7.5 to 12 % by mass, a temperature at which a coefficient of linear thermal expansion is 0 ppb/°C, falling within the range of from 40 to 110 °C, and a standard deviation (s) of a stress level of striae of 0.03 MPa or lower within an area of 30 mm x 30 mm in at least one plane.
(FR)L'invention permet d'obtenir un verre TiO2-SiO2 dont le coefficient de dilatation thermique linéaire est sensiblement égal à zéro pendant la période où le verre est soumis à un rayonnement d'UV extrême, lorsqu'il est utilisé comme élément optique d'un instrument d'exposition destiné à une lithographie par UV extrême (EUVL). Le verre selon l'invention présente une surface extrêmement lisse. L'invention concerne un verre de silice contenant du TIO2 et présentant une teneur en TIO2 comprise entre 7,5 et 12 % en poids, une température à laquelle le coefficient de dilatation thermique linéaire est égal à 0 partie par milliard/°C comprise dans une plage de températures allant de 40 à 110°C, et une déviation standard (s) d'un niveau de sollicitation de stries inférieure ou égale à 0,03 MPa dans une zone de 30 mm x 30 mm incluse dans au moins un plan.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)