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1. (WO2009107852) DISPOSITIF PORTANT UN SUBSTRAT, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, ÉLÉMENT DE PLAQUIEZ, ET PAROI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/107852    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054010
Date de publication : 03.09.2009 Date de dépôt international : 25.02.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
FUJIWARA, Tomoharu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJIWARA, Tomoharu; (JP).
NAGASAKA, Hiroyuki; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; 1-9-2, Marunouchi Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
Données relatives à la priorité :
61/064,356 29.02.2008 US
12/379,229 17.02.2009 US
Titre (EN) SUBSTRATE HOLDING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF PORTANT UN SUBSTRAT, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, ÉLÉMENT DE PLAQUIEZ, ET PAROI
Abrégé : front page image
(EN)A substrate holding apparatus holds a substrate that is exposed by exposure light that passes through a liquid. The substrate holding apparatus comprises: an opening (21); and a first holding part (23), which has a holding surface for holding the substrate inside the opening. At least part of an edge part (Eg) that defines- the opening has a first surface (41) and a second surface (42), which is provided above and is nonparallel to the first surface. The second surface extends from a boundary part (J) between the first surface and the second surface both upward and toward the outer side with respect to a center of the opening. The boundary part between the first surface and the second surface is substantially the same height as or higher than a front surface of the substrate, which is held by the first holding part.
(FR)Un dispositif porteur de substrat maintient un substrat exposé à la lumière qui traverse un liquide. Ledit dispositif comprend une ouverture et une première partie de maintien qui présente une surface de maintien du substrat dans l'ouverture. Au moins d'une partie d'une région de bord définissant l'ouverture présente une première surface et une seconde surface située au-dessus de cette première surface de manière non parallèle à cette dernière. La seconde surface part d'une zone limite entre la première surface et ladite seconde surface en direction à la fois du haut et du côté extérieur par rapport au centre de l'ouverture. Cette zone limite entre la première et la seconde surface est sensiblement aussi haute, voire plus haute, qu'une surface avant du substrat maintenue par la première partie de maintien.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)