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1. (WO2009107847) VERRE DE SILICE CONTENANT DU TIO2 ET ÉLÉMENT OPTIQUE POUR LITHOGRAPHIE UTILISANT UN TEL VERRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/107847    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/053995
Date de publication : 03.09.2009 Date de dépôt international : 25.02.2009
CIB :
C03C 3/06 (2006.01), C03C 4/00 (2006.01), C03B 19/14 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
KOIKE, Akio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IWAHASHI, Yasutomi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KIKUGAWA, Shinya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KOIKE, Akio; (JP).
IWAHASHI, Yasutomi; (JP).
KIKUGAWA, Shinya; (JP)
Mandataire : OGURI, Shohei; Eikoh Patent Firm, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo, 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-043583 25.02.2008 JP
Titre (EN) TIO2-CONTAINING SILICA GLASS AND OPTICAL MEMBER FOR LITHOGRAPHY USING THE SAME
(FR) VERRE DE SILICE CONTENANT DU TIO2 ET ÉLÉMENT OPTIQUE POUR LITHOGRAPHIE UTILISANT UN TEL VERRE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is to provide a TiO2-SiO2 glass whose coefficient of linear thermal expansion at the time of irradiating with high EUV energy light becomes substantially zero when used as an optical member of an exposure tool for EUVL. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass, having a fictive temperature of 1,000°C or lower, a OH concentration of 600 ppm or higher, a temperature at which the coefficient of linear temperature becomes 0 ppb/°C of from 40 to 110°C, and an average coefficient of linear thermal expansion in the temperature range of 20 to 100°C, of 50 ppb/°C or lower.
(FR)L'invention permet d'obtenir un verre TiO2-SiO2 dont le coefficient de dilatation thermique linéaire est sensiblement égal à zéro pendant la période où le verre est soumis à un rayonnement d'énergie lumineuse d'UV extrême, lorsqu'il est utilisé comme élément optique d'un instrument d'exposition destiné à une lithographie par UV extrême (EUVL). L'invention concerne un verre de silice contenant du TIO2 et présentant une température fictive inférieure ou égale à 1000°C, une concentration en OH supérieure ou égale à 600 ppm, une température à laquelle le coefficient de dilatation thermique linéaire est égal à 0 partie par milliard/°C, comprise entre entre 40 et 110°C, et un coefficient moyen de dilatation thermique linéaire inférieur ou égal à 50 parties par milliard/°C dans une plage de températures comprise entre 20 et 100°C.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)