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1. (WO2009107681) PROCÉDÉ POUR PRODUIRE UN OXYDE DE MÉTAL DOPÉ PAR UNE IMPURETÉ À L'AIDE DE MICRO-ONDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/107681    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/053454
Date de publication : 03.09.2009 Date de dépôt international : 25.02.2009
CIB :
C01B 13/14 (2006.01), B01J 19/12 (2006.01), B01J 21/06 (2006.01), B01J 35/02 (2006.01), C01G 23/047 (2006.01), C01G 25/02 (2006.01)
Déposants : KYOTO UNIVERSITY [JP/JP]; 36-1, Yoshida-honmachi, Sakyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto, 6068501 (JP) (Tous Sauf US).
YOSHIKAWA, Susumu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SONOBE, Taro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHINOHARA, Naoki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MITANI, Tomohiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HACHIYA, Kan [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YOSHIKAWA, Susumu; (JP).
SONOBE, Taro; (JP).
SHINOHARA, Naoki; (JP).
MITANI, Tomohiko; (JP).
HACHIYA, Kan; (JP)
Mandataire : YAMAGUCHI, Nobuyuki; Yotsubasi-Shinkousan Bldg. 5F, 5-2 Kita-Horie, 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 550-0014 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-042652 25.02.2008 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING IMPURITY-DOPED METAL OXIDE BY USING MICROWAVE
(FR) PROCÉDÉ POUR PRODUIRE UN OXYDE DE MÉTAL DOPÉ PAR UNE IMPURETÉ À L'AIDE DE MICRO-ONDES
(JA) マイクロ波を用いた不純物ドープ金属酸化物の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for producing an impurity-doped metal oxide by doping a metal oxide with a dopant element. Particularly disclosed is an advantageous method for producing a carbon-doped titanium dioxide having photocatalytic activity in the visible light region. Specifically disclosed is a method for producing an impurity-doped metal oxide, wherein a metal oxide is irradiated with a microwave in the presence of a dopant element, so that the metal oxide is doped with the dopant element. By irradiating a paste, which is obtained by mixing an organic solvent containing the dopant element with the metal oxide, with a microwave, the metal oxide can be effectively doped with the dopant element.
(FR)L'invention concerne un procédé pour produire un oxyde de métal dopé par une impureté par dopage d'un oxyde de métal avec un élément dopant. L'invention concerne en particulier un procédé avantageux pour produire un dioxyde de titane dopé par du carbone ayant une activité photocatalytique dans la région de la lumière visible. L'invention concerne précisément un procédé pour produire un oxyde de métal dopé par une impureté, dans lequel un oxyde de métal est irradié avec des micro-ondes en présence d'un élément dopant, de façon à ce que l'oxyde de métal soit dopé par l'élément dopant. Par irradiation d'une pâte, qui est obtenue par mélange d'un solvant organique contenant l'élément dopant avec l'oxyde de métal, avec des micro-ondes, l'oxyde de métal peut être efficacement dopé par l'élément dopant.
(JA)【課題】本発明は、金属酸化物にドーパント元素をドープし、不純物ドープ金属酸化物を製造する方法を提供する。特に、可視光域での光触媒活性を有する炭素ドープ二酸化チタンの有利な製造方法を提供する。 【解決手段】本発明の不純物ドープ金属酸化物の製造方法は、ドーパント元素の存在下で金属酸化物にマイクロ波を照射して、ドーパント元素を金属酸化物にドープするものである。ドーパント元素を含む有機溶剤と金属酸化物とを混合したペーストにマイクロ波を照射することで、効果的にドーパント元素を金属酸化物にドープすることができる。  
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)