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1. (WO2009107496) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE, SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE ET DISPOSITIF D'ENREGISTREMENT/REPRODUCTION MAGNÉTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/107496    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/052505
Date de publication : 03.09.2009 Date de dépôt international : 16.02.2009
CIB :
G11B 5/84 (2006.01), G11B 5/65 (2006.01), G11B 5/82 (2006.01), G11B 5/855 (2006.01)
Déposants : SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 13-9, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo, 1058518 (JP) (Tous Sauf US).
FUKUSHIMA, Masato [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAWAKI, Akira [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMANE, Akira [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUKUSHIMA, Masato; (JP).
SAKAWAKI, Akira; (JP).
YAMANE, Akira; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo, 1006620 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-047630 28.02.2008 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM, MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND MAGNETIC RECORDING/REPRODUCING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE, SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE ET DISPOSITIF D'ENREGISTREMENT/REPRODUCTION MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for manufacturing a magnetic recording medium, wherein foreign materials on a surface of the magnetic recording medium can be surely removed with high efficiency, a mask layer left on the surface of the magnetic recording medium does not stay, and productivity of magnetic layer pattern formation is high. The method has a step of forming a magnetic layer on a nonmagnetic substrate; a step of forming the mask layer on the magnetic layer; a step of forming a mask pattern by patterning the mask layer; a step of forming a magnetic recording pattern on the magnetic layer by using the mask pattern; a step of burnishing a surface of the mask pattern by using a polishing material; and a step of removing the mask pattern.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un support d'enregistrement magnétique. Selon l'invention, des matières étrangères sur une surface du support d'enregistrement magnétique peuvent être retirées de façon sûre avec un rendement élevé, sans laisser de couche de masque sur la surface du support d'enregistrement magnétique, et avec une productivité de formation de motif de couche magnétique élevée. Le procédé consiste à former une couche magnétique sur un substrat non magnétique; à former la couche de masque sur la couche magnétique; à former une couche de masque par la formation de motifs sur la couche de masque; à former un motif d'enregistrement magnétique sur la couche magnétique à l'aide du motif de masque; à brunir une surface du motif de masque à l'aide d'un matériau de polissage; et à retirer la couche de masque.
(JA) 磁気記録媒体の表面の異物を効率良く確実に除去することができ、当該磁気記録媒体の表面に残存したマスク層が残留することがなく、磁性層のパターン形成の生産性が高い磁気記録媒体の製造方法が提供される。そのような磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板上に磁性層を形成する工程と、磁性層上にマスク層を形成する工程と、マスク層をパターニングしてマスクパターンを形成する工程と、マスクパターンを用いて磁性層に磁気記録パターンを形成する工程と、マスクパターンの表面を研磨材によりバーニッシュする工程と、マスクパターンを除去する工程とを有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)