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1. (WO2009106560) CONFIGURATION DE LENTILLES DE PROJECTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/106560    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/052264
Date de publication : 03.09.2009 Date de dépôt international : 26.02.2009
CIB :
H01J 37/12 (2006.01), H01J 37/30 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01)
Déposants : MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. [NL/NL]; Computerlaan 15 NL-2628 XK Delft (NL) (Tous Sauf US).
WIELAND, Jan Jaco [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
KAMPHERBEEK, Bert Jan [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
KRUIT, Pieter [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
STEENBRINK, Stijn Willem Herman Karel [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : WIELAND, Jan Jaco; (NL).
KAMPHERBEEK, Bert Jan; (NL).
VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent; (NL).
KRUIT, Pieter; (NL).
STEENBRINK, Stijn Willem Herman Karel; (NL)
Mandataire : OWEN, David; (NL).
CLARKSON, Paul; (NL).
DEN HARTOG, Jeroen; (NL).
DERKS, Wilhelmus; (NL).
HAMPTON, Matthew; (NL).
PIERCE, Christopher; (NL)
Données relatives à la priorité :
61/031,594 26.02.2008 US
Titre (EN) PROJECTION LENS ARRANGEMENT
(FR) CONFIGURATION DE LENTILLES DE PROJECTION
Abrégé : front page image
(EN)A charged particle multi-beamlet system for exposing a target (11) using a plurality of beamlets (21). The system comprises a first plate (12, 13, 14) having a plurality of holes (18) formed in it, with a plurality of electrostatic projection lens systems formed at the location of each hole so that each electron beamlet passes through a corresponding projection lens system. The holes have sufficiently uniform placement and dimensions to enable focusing of the beamlets onto the surface of the target using a common control voltage (Vl, V2, V3). Preferably the electrostatic projection lens systems are controlled by a common electrical signal to focus the electron beamlets on the surface without correction of the focus or path of individual electron beamlets.
(FR)L'invention concerne un système de plusieurs mini-faisceaux de particules chargées destiné à exposer une cible (11) à l'aide de plusieurs mini-faisceaux (21). Le système comprend une première plaque (12, 13, 14) dans laquelle une pluralité de trous est formée (18), une pluralité de systèmes de lentilles de projection électrostatiques étant formée à l'emplacement de chaque trou de sorte que chaque mini-faisceau d'électrons traverse un système de lentilles de projection correspondant. Le placement et les dimensions des trous sont suffisamment uniformes pour permettre la focalisation des mini-faisceaux sur la surface de la cible à l'aide d'une tension de commande courante (Vl, V2, V3). De préférence, les systèmes de lentilles de projection électrostatiques sont commandés par un signal électrique courant pour focaliser les mini-faisceaux d'électrons sur la surface sans corriger la focalisation ou le trajet des mini-faisceaux d'électrons individuels.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)