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1. (WO2009106217) PROCÉDÉ DE FONCTIONNEMENT D’UN SYSTÈME D’ÉCLAIRAGE D’UN APPAREIL D’EXPOSITION À PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/106217    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/000861
Date de publication : 03.09.2009 Date de dépôt international : 07.02.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
NATT, Oliver [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SCHLESENER, Frank [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : NATT, Oliver; (DE).
SCHLESENER, Frank; (DE)
Mandataire : SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner Epplestrasse 14 70597 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2008 011 501.0 25.02.2008 DE
61/031,045 25.02.2008 US
Titre (EN) METHOD FOR OPERATING AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE FONCTIONNEMENT D’UN SYSTÈME D’ÉCLAIRAGE D’UN APPAREIL D’EXPOSITION À PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)In a method for operating an illumination system (12) of a microlithographic projection exposure apparatus (10), a set of illumination parameters that describe properties of a light bundle which converges at a point (72) on a mask (14) to be illuminated by the illumination system (12), is first determined. Optical elements (26, 36, 44, 46, 74, 76) whose optical effect on the illumination parameters can be modified as a function of control commands are furthermore determined, as well as sensitivities with which the illumination parameters react to an adjustment of the optical elements, induced by the control commands. The control commands are then determined while taking the previously determined sensitivities into account, such that deviations of the illumination parameters from predetermined target illumination parameters satisfy a predetermined minimisation criterion. These control commands are applied to the optical elements, before the mask (14) is illuminated.
(FR)Dans un procédé de fonctionnement d’un système d’éclairage (12) d’un appareil d’exposition à projection microlithographique (10), un ensemble de paramètres d’éclairage qui décrivent les propriétés d’un faisceau lumineux qui converge en un point (72) sur un masque (14) devant être éclairé par le système d’éclairage (12) est d’abord déterminé. Des éléments optiques (26, 36, 44, 46, 74, 76), dont l’effet optique sur les paramètres d’éclairage peut être modifié en tant que fonction des commandes de contrôle, sont en outre déterminés, ainsi que les sensibilités avec lesquelles les paramètres d’éclairage réagissent à un ajustement des éléments optiques, induit par les commandes de contrôle. Les commandes de contrôle sont ensuite déterminées tout en prenant en compte les sensibilités précédemment déterminées, de sorte que des écarts des paramètres d’éclairage par rapport à des paramètres d’éclairage cibles prédéterminés satisfassent à un critère de minimisation prédéterminé. Ces commandes de contrôle sont appliquées aux éléments optiques avant que le masque (14) ne soit éclairé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)