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1. (WO2009105815) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE SOURCE DE PHOTONS UNIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/105815    N° de la demande internationale :    PCT/AU2009/000215
Date de publication : 03.09.2009 Date de dépôt international : 25.02.2009
CIB :
G02F 1/39 (2006.01), G01N 21/63 (2006.01), G01N 21/87 (2006.01)
Déposants : THE UNIVERSITY OF MELBOURNE [AU/AU]; Grattan Street PARKVILLE , Victoria 3052 (AU) (Tous Sauf US).
TRPKOVSKI, Steven [AU/AU]; (AU) (US Seulement).
PRAWER, Steven [AU/AU]; (AU) (US Seulement).
SIMPSON, David Allan [AU/AU]; (AU) (US Seulement).
AMPEM-LASSEN, Eric [AU/AU]; (AU) (US Seulement).
GIBSON, Brant Cameron [AU/AU]; (AU) (US Seulement)
Inventeurs : TRPKOVSKI, Steven; (AU).
PRAWER, Steven; (AU).
SIMPSON, David Allan; (AU).
AMPEM-LASSEN, Eric; (AU).
GIBSON, Brant Cameron; (AU)
Mandataire : GRIFFITH HACK; Level 19 109 St Georges Terrace Perth , Western Australia 6000 (AU)
Données relatives à la priorité :
2008900884 25.02.2008 AU
Titre (EN) A METHOD OF FABRICATING A SINGLE PHOTON SOURCE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE SOURCE DE PHOTONS UNIQUES
Abrégé : front page image
(EN)The present disclosure provides a method of fabricating a single photon source. The method comprises the steps of providing a substrate with a visual feature and providing a plurality of particles positioned on the substrate. The particles are positioned in the proximity of the visual feature and include a particle that is arranged for single photon emission in response to a suitable excitation. The method also includes characterising photon emission from the particles to identify the single photon emission and thereby identifying an approximate location of the particle arranged for single photon emission relative to the visual feature. Further, the method includes imaging the visual feature and an area in the proximity of the visual feature and thereby imaging the particle arranged for single photon emission. In addition, the method includes moving the particle arranged for single photon emission to a predetermined position comprising coupling a suitable device to the particle and lifting the particle using the suitable device.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une source de photons uniques. Le procédé consiste à utiliser un substrat pourvu d'un élément visuel et une pluralité de particules positionnées sur le substrat. Les particules sont positionnées à proximité de l'élément visuel et comprennent une particule permettant l'émission de photons uniques en réponse à une excitation adaptée. Le procédé consiste également à caractériser l'émission de photons à partir des particules pour identifier l'émission de photons uniques et ainsi identifier un emplacement approximatif de la particule d'émission de photons uniques par rapport à l'élément visuel. Le procédé consiste, de plus, à mettre en images l'élément visuel et une zone à proximité de l'élément visuel et à mettre ainsi en images la particule d'émission de photons uniques. Le procédé consiste en outre à déplacer la particule d'émission de photons uniques sur une position prédéterminée par couplage d'un dispositif adapté à la particule et levage de la particule à l'aide du dispositif adapté.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)