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1. (WO2009094009) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE FORMATION DE NANOMOTIF DE GRANDE SUPERFICIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/094009    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/012901
Date de publication : 30.07.2009 Date de dépôt international : 18.11.2008
CIB :
H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : ROLITH, INC. [US/US]; 4292 Keegan Street, Dublin, CA 94568 (US) (Tous Sauf US).
KOBRIN, Boris; (US) (US Seulement).
LANDAU, Igor; (US) (US Seulement).
VOLF, Boris; (US) (US Seulement)
Inventeurs : KOBRIN, Boris; (US).
LANDAU, Igor; (US).
VOLF, Boris; (US)
Mandataire : ROLITH, INC.; c/o Boris Kobrin, Ph.D. 4292 Keegan St., Dublin, CA 94568 (US)
Données relatives à la priorité :
61/011,861 22.01.2008 US
Titre (EN) LARGE AREA NANOPATTERNING METHOD AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE FORMATION DE NANOMOTIF DE GRANDE SUPERFICIE
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments of the invention relate to methods and apparatus useful in the nanopatterning of large area substrates, where a rotatable mask is used to image a radiation- sensitive material. Typically the rotatable mask comprises a cylinder. The nanopatterning technique makes use of Near-Field photolithography, where the mask used to pattern the substrate is in dynamic contact with the substrate. The Near-Field photolithography may make use of an elastomeric phase-shifting mask, or may employ surface plasmon technology, where a rotating cylinder surface comprises metal nano holes or nanoparticles.
(FR)L'invention concerne des procédés et un appareil utiles dans la formation de nanomotif sur des substrats de grande superficie, un masque rotatif étant utilisé pour imager un matériau sensible au rayonnement. Typiquement, le masque rotatif comprend un cylindre. La technique de formation de nanomotif utilise la photolithographie en champ proche, le masque utilisé pour former des motifs sur le substrat étant en contact dynamique avec le substrat. La photolithographie en champ proche peut utiliser un masque de déphasage élastomère, ou peut employer la technologie du plasmon de surface, une surface de cylindre rotative comprenant des nanotrous ou des nanoparticules en métal.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)