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1. (WO2009092567) SCHÉMA DE CAMOUFLAGE POUR MOTIF DE CAMOUFLAGE SUR DES OBJETS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/092567    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/000348
Date de publication : 30.07.2009 Date de dépôt international : 21.01.2009
CIB :
F41H 3/00 (2006.01)
Déposants : LENZ, Florian [DE/DE]; (DE)
Inventeurs : LENZ, Florian; (DE)
Mandataire : SCHÜTTE, Hartmut; BSB Anwaltskanzlei Am Markt 2 59302 Oelde (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2008 005 802.5 21.01.2008 DE
10 2008 002 811.8 21.03.2008 DE
Titre (DE) TARNSCHEMA FÜR TARNMUSTER AN OBJEKTEN
(EN) PATTERN FOR CAMOUFLAGE MOTIF ON OBJECTS
(FR) SCHÉMA DE CAMOUFLAGE POUR MOTIF DE CAMOUFLAGE SUR DES OBJETS
Abrégé : front page image
(DE)Tarnschema mit einer mehreckigen Schemafläche für ein Tarnmuster für zu tarnende Objekte, wobei die mehreckige Schemafläche des Tarnschemas solche Abmessungen aufweist, dass die mehreckige Schemafläche eine Objektfläche eines zu tarnenden Objekts im Wesentlichen vollständig abdeckt. Dazu weist die Schemafläche eine erste Seitenlänge auf, die eine wesentliche erste Ausdehnung des zu tarnenden Objekts umfasst, und die Schemafläche weist eine zweite Seitenlänge auf, die eine wesentliche zweite Ausdehnung des zu tarnenden Objekts umfasst. Dabei sind auf der mehreckigen Schemafläche wenigstens zwei benachbarte und in eine erste gleiche Laufrichtung ausgerichtete Eigenschaftsbänder vorgesehen, welche vorgegebenen Breiten aufweisen, wobei sich benachbarte Eigenschaftsbänder alternierend wenigstens in der Ausprägung einer wahrnehmbaren Eigenschaft unterscheiden. Dabei sind die Abmessungen der Schemafläche und die Breiten der Eigenschaftsbänder derart bemessenen, dass sich nur maximal drei und insbesondere nur zwei Eigenschaftsbänder mit ihrer vollen Breite auf der Schemafläche erstrecken.
(EN)The invention relates to a camouflage pattern having a polygonal pattern area for a camouflage motif for objects to be camouflaged, wherein the polygonal pattern area of the camouflage pattern has such dimensions that the polygonal pattern area substantially fully covers an object area of an object to be camouflaged. For this, the pattern area has a first side length, which has a substantial first expansion of the object to be camouflaged, and the pattern area has a second side length, which has a substantial second expansion of the object to be camouflaged. At least two adjacent property bands, which have predetermined widths and are aligned in a first identical running direction, are provided on the polygonal pattern area, wherein adjacent property bands alternately differ at least in the extent of a discernible property. To this end, the dimensions of the pattern area and the widths of the property bands are dimensioned such that only a maximum of three and in particular only two property bands extend with the full widths thereof on the pattern area.
(FR)L'invention concerne un schéma de camouflage à surface polygonale pour un motif de camouflage destiné à des objets à camoufler, la surface polygonale du schéma de camouflage présentant des dimensions telles qu'elle recouvre sensiblement complètement la surface d'un objet à camoufler. À cet effet, la surface du schéma présente une première longueur latérale qui comprend une première dimension principale de l'objet à camoufler, ainsi qu'une seconde longueur latérale qui comprend une seconde dimension principale de l'objet à camoufler. Selon l'invention, la surface polygonale du schéma présente au moins deux bandes de propriété adjacentes s'étendant dans une première direction identique et présentant des largeurs prédéfinies, des bandes de propriété adjacentes se différenciant en alternance au moins en ce qui concerne le degré d'intensité d'une propriété perceptible. Les dimensions de la surface du schéma et les largeurs des bandes de propriété sont fixées de telle sorte que seulement trois bandes de propriété au maximum, et en particulier seulement deux bandes de propriété s'étendent sur toute leur largeur sur la surface du schéma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)