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1. (WO2009091630) PRÉVENTION DE CONTAMINATION DANS UNE LITHOGRAPHIE À ULTRAVIOLET EXTRÊME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/091630    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/030209
Date de publication : 23.07.2009 Date de dépôt international : 06.01.2009
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, California 95054 (US) (Tous Sauf US).
WU, Banqiu [US/US]; (US) (US Seulement).
KUMAR, Ajay [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WU, Banqiu; (US).
KUMAR, Ajay; (US)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; Patterson & Sheridan, L.L.P. 3040 Post Oak Blvd., Suite 1500 Houston, Texas 77056-6582 (US)
Données relatives à la priorité :
12/015,984 17.01.2008 US
Titre (EN) CONTAMINATION PREVENTION IN EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY
(FR) PRÉVENTION DE CONTAMINATION DANS UNE LITHOGRAPHIE À ULTRAVIOLET EXTRÊME
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments of the present invention provide methods and apparatus for removing debris particles using a stream of charged species. One embodiment of the present invention provides an apparatus for removing debris particles from a beam of radiation comprising a charged species source configured to dispense electrically charged species, and a collecting plate biased electrically opposite to the charged species from the charged species source, wherein the collecting plate and the charged species source are disposed on opposite sides of the beam of radiation, a stream of charged species from the charged species source to the collecting plate intersects the beam of radiation, the stream of charged species is configured to attach and remove debris particles from the beam of radiation by electrostatic force, and the collecting plate is configured to receive the charged species and the debris particles removed from the beam of radiation.
(FR)Des modes de réalisation de la présente invention portent sur des procédés et sur un appareil pour éliminer des particules de débris à l'aide d'un courant d'espèces chargées. Un mode de réalisation de la présente invention porte sur un appareil pour éliminer des particules de débris d'un faisceau de rayonnement comportant une source d'espèces chargées configurée pour distribuer des espèces chargées électriquement, et une plaque collectrice polarisée électriquement de façon opposée aux espèces chargées de la source d'espèces chargées, la plaque collectrice et la source d'espèces chargées étant disposées sur des côtés opposés du faisceau de rayonnement, un courant d'espèces chargées de la source d'espèces chargées vers la plaque collectrice croisant le faisceau de rayonnement, le courant d'espèces chargées étant configuré pour fixer et éliminer des particules de débris du faisceau de rayonnement par une force électrostatique et la plaque collectrice étant configurée pour recevoir les espèces chargées et les particules de débris éliminées du faisceau de rayonnement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)