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1. (WO2009091361) SUPPORTS POREUX HAUTE PERFORMANCE POUR L'IMPRESSION PAR JET D'ENCRE AVEC UNE QUALITÉ D'IMAGE SUPÉRIEURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/091361    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/000528
Date de publication : 23.07.2009 Date de dépôt international : 15.01.2008
CIB :
C09D 11/00 (2006.01)
Déposants : HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P. [US/US]; 11445 Compaq Center Drive West, Houston, TX 77070 (US) (Tous Sauf US).
CHEN, Tienteh [US/US]; (US) (US Seulement).
SLUZKY, Vladimir [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CHEN, Tienteh; (US).
SLUZKY, Vladimir; (US)
Mandataire : DANG, Thi; Hewlett-Packard Company, Mail Stop 35, P.O. Box 272400, Fort Collins, CO 80527-2400 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) HIGH PERFORMANCE POROUS INK-JET MEDIA WITH SUPERIOR IMAGE QUALITY
(FR) SUPPORTS POREUX HAUTE PERFORMANCE POUR L'IMPRESSION PAR JET D'ENCRE AVEC UNE QUALITÉ D'IMAGE SUPÉRIEURE
Abrégé : front page image
(EN)A print medium for ink-jet printing can comprise a base substrate; an ink- receiving layer comprising metal oxide particulates or semi-metal oxide particulates and a binder; and a gloss layer comprising colloidal silica and greater than 5 wt% of a copolymer of vinylpyrrolidone. The ink-receiving layer can be positioned between the substrate and the gloss layer.
(FR)L'invention porte sur un support d'impression pour l'impression par jet d'encre qui peut comprendre un substrat de base; une couche réceptrice d'encre comprenant des particules d'oxyde de métal ou des particules d'oxyde de métalloïde et un liant; et une couche brillante comprenant de la silice colloïdale et plus de 5 % en poids d'un copolymère de vinylpyrrolidone. La couche réceptrice d'encre peut être positionnée entre le substrat et la couche brillante.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)