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1. (WO2009091195) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/091195    N° de la demande internationale :    PCT/KR2009/000224
Date de publication : 23.07.2009 Date de dépôt international : 15.01.2009
CIB :
H01L 21/205 (2006.01)
Déposants : EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD. [KR/KR]; 209-3 Chugye-ri, Yangji-myeon, Cheoin-gu, Yongin-si, Gyeonggi-do, 449-824 (KR) (Tous Sauf US).
WOO, Sang-Ho [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
YANG, Il-Kwang [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : WOO, Sang-Ho; (KR).
YANG, Il-Kwang; (KR)
Mandataire : KIM, Inhan; (KR).
KIM, Heegon; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2008-0004550 15.01.2008 KR
Titre (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)A plasma processing apparatus includes a chamber to provide an inner area in which a process is performed upon an object, and a plasma source to generate an electric field in the inner area and thereby to generate plasma from a source gas supplied in the inner area, wherein the plasma source comprises a top source provided in the top of the chamber, and a side source encompassing the side of the chamber and allowing current to flow from the one side of the chamber to the other side thereof.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement par plasma comprenant une chambre destinée à former une zone interne dans laquelle un processus est réalisé sur un objet, et une source de plasma destinée à générer un champ électrique dans la zone interne et à générer ainsi un plasma à partir d'un gaz source amené dans la zone interne, la source de plasma comprenant une source supérieure installée dans la partie supérieure de la chambre et une source latérale englobant le côté de la chambre et permettant à un courant de circuler d'un côté à l'autre de la chambre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)