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1. (WO2009090916) COMPOSÉS D'ORGANOSILICIUM COMPRENANT DES GROUPES OXÉTANYLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET COMPOSITIONS DURCISSABLES CONTENANT CEUX-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/090916    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/050213
Date de publication : 23.07.2009 Date de dépôt international : 09.01.2009
CIB :
C08G 77/14 (2006.01), C08G 77/08 (2006.01)
Déposants : TOAGOSEI CO., LTD. [JP/JP]; 1-14-1, Nishi-Shimbashi, Minato-ku, Tokyo 1058419 (JP) (Tous Sauf US).
OOIKE, Sayaka [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUZUKI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KITAMURA, Akinori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OOIKE, Sayaka; (JP).
SUZUKI, Hiroshi; (JP).
KITAMURA, Akinori; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-005425 15.01.2008 JP
2008-026796 06.02.2008 JP
Titre (EN) ORGANOSILICON COMPOUNDS WHICH HAVE OXETANYL GROUPS, AND A METHOD FOR THE PRODUCTION AND CURABLE COMPOSITIONS OF THE SAME
(FR) COMPOSÉS D'ORGANOSILICIUM COMPRENANT DES GROUPES OXÉTANYLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET COMPOSITIONS DURCISSABLES CONTENANT CEUX-CI
(JA) オキセタニル基を有する有機ケイ素化合物およびその製造方法ならびに硬化性組成物
Abrégé : front page image
(EN)Provided are organosilicon compounds which have oxetanyl groups which have a high proportion of inorganic parts in the structure, which, after production, are stable with no gelling, and which have excellent storage stability when they are formed into compositions, and a method for the production and curable compositions of the same. The organo-silicon compounds which have oxetanyl groups are compounds which are obtained by a method which includes a process in which a silicon compound A which can be represented by general formula (1) and a silicon compound B which has four siloxane bond-forming groups are subjected to hydrolysis and condensation in proportions of from 0.3 to 2.8 mol of silicon compound B per 1 mol of silicon compound A. [In the formula, R0 is an organic group which has an oxetanyl group, R1 is an alkyl group of carbon number from 1 to 6, an aralkyl group of carbon number from 7 to 10, an aryl group of carbon number from 6 to 10 or an organic group which has an oxetanyl group, X is a hydrolyzable group and n is 0 or 1.]
(FR)L'invention concerne des composés d'organosilicium comprenant des groupes oxétanyle présentant une proportion élevée d'éléments inorganiques dans leur structure, et qui, après leur production, sont stables et ne se gélifient pas, et présentent une excellente stabilité au stockage lorsqu'ils entrent dans des compositions, ainsi qu'un procédé de production et des compositions durcissables contenant ceux-ci. Les composés d'organosilicium comprenant des groupes oxétanyle sont des composés obtenus selon un procédé comprenant un traitement dans lequel un composé de silicium A pouvant être représenté par la formule générale (1) et un composé de silicium B comprenant quatre groupes de formation de liaisons de siloxane sont soumis à une hydrolyse et à une condensation dans des proportions variant entre 0,3 et 2,8 mol du composé de silicium B pour 1 mol du composé de silicium A. (1) [Dans la formule, R0 est un groupe organique comprenant un groupe oxétanyle, R1 est un groupe alkyle avec 1 à 6 atomes de carbone, un groupe aralkyle avec 7 à 10 atomes de carbone, un groupe aryle avec 6 à 10 atomes de carbone, ou un groupe organique comprenant un groupe oxétanyle; X est un groupe hydrolysable; et n est 0 ou 1.]
(JA) 本発明の目的は、その構造中に占める無機部分の割合が高く、製造後、ゲル化することなく安定であり、組成物とした場合に保存安定性に優れた、オキセタニル基を有する有機ケイ素化合物およびその製造方法ならびに硬化性組成物を提供することである。本発明のオキセタニル基を有する有機ケイ素化合物は、アルカリ性条件下、下記一般式(1)で表されるケイ素化合物Aと、4個のシロキサン結合生成基を有するケイ素化合物Bとを、ケイ素化合物Aの1モルに対してケイ素化合物Bを0.3~2.8モルの割合で加水分解・縮合する工程を備える方法により得られた化合物である。  【化1】 [式中、R0はオキセタニル基を有する有機基であり、R1は炭素数1~6のアルキル基、炭素数7~10のアラルキル基、炭素数6~10のアリール基またはオキセタニル基を有する有機基であり、Xは加水分解性基であり、nは0または1である。]
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)