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1. (WO2009090774) PROCÉDÉ ET APPAREIL D'EXTRACTION/RÉCUPÉRATION DE CUIVRE DANS DES LIQUIDES RÉSIDUAIRES ACIDES CONTENANT DU CUIVRE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE SUBSTANCE CONTENANT DU CUIVRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/090774    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/065919
Date de publication : 23.07.2009 Date de dépôt international : 28.08.2008
CIB :
C22B 15/00 (2006.01), C02F 1/62 (2006.01), C02F 1/72 (2006.01), C22B 3/44 (2006.01), C22B 7/00 (2006.01)
Déposants : EBARA ENGINEERING SERVICE CO., LTD. [JP/JP]; 11-1, Haneda Asahi-cho, Ohta-ku, Tokyo 1448610 (JP) (Tous Sauf US).
KOBAYASHI, Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUZUKI, Toshihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SATO, Kaori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUBOTA, Yoko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KOBAYASHI, Atsushi; (JP).
SUZUKI, Toshihiro; (JP).
SATO, Kaori; (JP).
KUBOTA, Yoko; (JP)
Mandataire : WATANABE, Isamu; GOWA Nishi-Shinjuku 4F 5-8, Nishi-Shinjuku 7-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-006195 15.01.2008 JP
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR REMOVING/RECOVERING COPPER FROM COPPER-CONTAINING ACIDIC WASTE LIQUID AND PROCESS FOR PRODUCING COPPER-CONTAINING SUBSTANCE
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL D'EXTRACTION/RÉCUPÉRATION DE CUIVRE DANS DES LIQUIDES RÉSIDUAIRES ACIDES CONTENANT DU CUIVRE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE SUBSTANCE CONTENANT DU CUIVRE
(JA) 銅含有酸性廃液からの銅の除去回収方法及び装置並びに銅含有物の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A method and an apparatus in which an acidic waste liquid containing copper ions, such as, e.g., an etching waste liquid resulting from the etching of a copper-clad substrate with a cupric chloride etchant or a waste liquid resulting from plating bath replacement with a fresh one in producing an electrolytic copper foil. The method, which is for removing/recovering copper from an copper-containing acidic waste liquid, comprises: pouring a liquid mixture of the copper-containing acidic waste liquid and an oxidizing agent into an alkali solution while regulating the pH of the alkali solution after addition of the liquid mixture so as not to decrease to 7 or lower even temporarily; and isolating the resultant solid matter containing copper oxide as a main component.
(FR)Procédé et appareil dans lesquels un liquide résiduaire acide contenant des ions cuivre, comme par exemple un liquide résiduaire de gravure chimique résultant de la gravure d'un substrat stratifié cuivré au moyen d'un agent de gravure au chlorure cuivrique ou un liquide résiduaire résultant du remplacement d'un bain de dépôt par un nouveau bain lors de la production d'une feuille de cuivre électrolytique. Le procédé, qui vise à extraire/récupérer du cuivre dans un liquide résiduaire acide contenant du cuivre, comprend les étapes consistant à : verser un mélange liquide du liquide résiduaire acide contenant du cuivre ainsi qu'un agent oxydantdans une solution alcaline tout en régulant le pH de la solution alcaline suite à l'adjonction du mélange liquide de sorte à ce qu'il ne soit jamais inférieur ou égal à 7, ne serait-ce que provisoirement; et isoler les matières solides qui en résultent et qui contiennent de l'oxyde de cuivre en tant que composant principal.
(JA)本発明は、例えば銅プリント基板を塩化第二銅エッチング液でエッチングする際に生じるエッチング廃液や電解銅箔製造におけるメッキ浴液の更新廃液などの銅イオンを含有する酸性廃液を処理して銅を除去回収する方法および装置に関するものである。本発明は、銅含有酸性廃液と酸化剤との混合液をアルカリ剤溶液に、混合液注加後のアルカリ剤溶液のpHが一時的にでも7以下に下がらないよう管理しつつ注加し、生成する酸化銅を主成分とする固形物を取得する銅含有酸性廃液からの銅の除去回収方法である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)