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1. (WO2009090504) APPAREIL D'APPORT DE MATÉRIAU SUR UNE SURFACE DE DÉPÔT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/090504    N° de la demande internationale :    PCT/IB2008/050193
Date de publication : 23.07.2009 Date de dépôt international : 18.01.2008
CIB :
C23C 16/44 (2006.01)
Déposants : NXP B.V. [NL/NL]; High Tech Campus 60, NL-5656 AG Eindhoven (NL) (Tous Sauf US).
PICARD, Erwann [FR/FR]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : PICARD, Erwann; (NL)
Mandataire : VAN DER VEER, Johan, L.; c/o NXP Semiconductors, IP Department, HTC 60 1.31 Prof Holstlaan 4, NL-5656 AG Eindhoven, (NL)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) APPARATUS FOR PROVIDING MATERIAL ON A DEPOSITION SURFACE
(FR) APPAREIL D'APPORT DE MATÉRIAU SUR UNE SURFACE DE DÉPÔT
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to an apparatus (100) for providing a layer of a material from a precursor gas on a deposition surface (112) of a substrate (110). The apparatus includes a deposition chamber (102) and a trap surface (116) for trapping reactive constituents of the precursor gas, the trap surface (116) being arranged such that at least part of the precursor gas flows from a precursor gas inlet (104) along the trap surface (116) before reaching the deposition surface (112) of the substrate (110). The apparatus provides material layers with improved homogeneity
(FR)Cette invention concerne un appareil (100) conçu pour fournir une couche de matériau à partir d'un gaz précurseur sur une surface de dépôt (112) d'un substrat (110). L'appareil comprend une chambre de dépôt (102) et une surface de piégeage (116) pour piéger les constituants réactifs du gaz précurseur, la surface de piégeage (116) étant agencée de telle sorte qu'au moins une partie du gaz précurseur s'écoule depuis un orifice d'admission de gaz précurseur (104) le long de la surface de piégeage (116) avant d'atteindre la surface de dépôt (112) du substrat (110). L'appareil fournit des couches de matériau d'homogénéité améliorée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)