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1. (WO2009089311) PROCÉDÉS ET APPAREILS POUR UN ENSEMBLE À LARGE CONDUCTANCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/089311    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/030373
Date de publication : 16.07.2009 Date de dépôt international : 08.01.2009
CIB :
H05H 1/34 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, California 94538 (US) (Tous Sauf US).
FISCHER, Andreas [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : FISCHER, Andreas; (US)
Mandataire : NGUYEN, Joseph A.; P.O. Box 700640, San Jose, CA 95170 (US)
Données relatives à la priorité :
61/019,679 08.01.2008 US
Titre (EN) METHODS AND APPARATUS FOR A WIDE CONDUCTANCE KIT
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREILS POUR UN ENSEMBLE À LARGE CONDUCTANCE
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus for controlling gas flow conductance in a plasma processing chamber being configured with an upper electrode disposed opposite a lower electrode adapted to support a substrate is provided. The apparatus includes a ground ring configured to include a first set of radial slots formed therein. The apparatus also includes a confinement ring arrangement which includes at least a first set of collapsible confinement rings and a second set of collapsible confinement rings which is configured to movably couple to the first set of collapsible confinement rings. The apparatus further includes a mechanism configured at least to collapse and to expand the first set of collapsible confinement rings and the second set of collapsible confinement rings to control gas flow conductance through the first set of radial slots between (a) an unobstructed gas flow, ON state, and (b) an obstructed gas flow, OFF state.
(FR)L'invention porte sur un appareil pour commander une conductance d'écoulement gazeux dans une chambre de traitement par plasma, configurée avec une électrode supérieure disposée à l'opposée d'une électrode inférieure apte à supporter un substrat. L'appareil comprend un anneau de mise à la masse configuré pour comprendre un premier ensemble de fentes radiales formées dans celui-ci. L'appareil comprend également un agencement de bagues de confinement qui comprend au moins un premier ensemble de bagues de confinement pliables et un second ensemble de bagues de confinement pliables, qui est configuré pour se coupler de façon amovible au premier ensemble de bagues de confinement pliables. L'appareil comprend en outre un mécanisme configuré au moins pour plier ou étendre le premier ensemble de bagues de confinement pliables et le second ensemble de bagues de confinement pliables pour commander une conductance d'écoulement gazeux à travers le premier ensemble de fentes radiales entre (a) un écoulement gazeux non obstrué, état ACTIF et (b) un écoulement gazeux obstrué, état INACTIF.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)