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1. (WO2009088043) PARTICULES DE ZIRCONE À SURFACE MODIFIÉE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE TELLES PARTICULES ET COMPOSITION DE RÉSINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/088043    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/050151
Date de publication : 16.07.2009 Date de dépôt international : 08.01.2009
CIB :
C01G 25/02 (2006.01), C08K 9/04 (2006.01), C08L 101/00 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
HIRAKOSO, Hideyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SASAKURA, Hideshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HIRAKOSO, Hideyuki; (JP).
SASAKURA, Hideshi; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square, 17, Kanda-Konyacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-001811 09.01.2008 JP
Titre (EN) SURFACE-MODIFIED ZIRCONIA PARTICLE, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND RESIN COMPOSITION
(FR) PARTICULES DE ZIRCONE À SURFACE MODIFIÉE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE TELLES PARTICULES ET COMPOSITION DE RÉSINE
(JA) 表面修飾ジルコニア粒子、その製造方法及び樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: surface-modified zirconia particles having excellent dispersibility in resins; a process for producing the surface-modified zirconia particles; and a resin composition having a high refractive index and excellent transparency. The surface-modified zirconia particles have an average particle diameter of 1-100 nm, comprise monoclinic-zirconia particles the surface of which has been modified with a C8-18 monocarboxylic acid. The process, which is for producing surface-modified zirconia particles having an average particle diameter of 1-100 nm and comprising monoclinic-zirconia particles whose surface has been modified with a C8-18 monocarboxylic acid, comprises conducting a hydrothermal treatment in the presence of the zirconium salt of a C8-18 monocarboxylic acid and water to obtain the target particles, the molar ratio of the water to the zirconium salt being 1-30.
(FR)La présente invention concerne : des particules de zircone à surface modifiée présentant une excellente dispersibilité dans les résines; un procédé de production des particules de zircone à surface modifiée; et une composition de résine dotée d'un indice de réfraction élevé et d'une excellente transparence. Les particules de zircone à surface modifiée présentent un diamètre moyen compris entre 1 et 100 nm et comportent des particules de zircone monoclinique dont la surface a été modifiée avec un acide monocarboxylique C8-18. Le procédé, qui concerne la production de particules de zircone à surface modifiée présentant un diamètre moyen compris entre 1 et 100 nm et comportant des particules de zircone monoclinique dont la surface a été modifiée avec un acide monocarboxylique C8-18, consiste à effectuer un traitement hydrothermique en présence du sel de zirconium d'un acide monocarboxylique C8-18 et d'eau pour obtenir les particules visées, le rapport molaire de l'eau au sel de zirconium étant compris entre 1 et 30.
(JA) 本発明は、樹脂中における分散性が優れる表面修飾ジルコニア粒子及び該表面修飾ジルコニア粒子の製造方法並びに屈折率が高く、透明性に優れる樹脂組成物を提供することを目的とする。  平均粒子径1~100nmの表面修飾ジルコニア粒子は、炭素数8~18のモノカルボン酸により表面修飾されている単斜晶ジルコニア粒子よりなる。炭素数8~18のモノカルボン酸により表面修飾されている単斜晶ジルコニア粒子よりなる平均粒子径1~100nmの表面修飾ジルコニア粒子の製造方法は、炭素数8~18のモノカルボン酸のジルコニウム塩及び該ジルコニウム塩に対して、モル比1~30の水の存在下で水熱処理することにより得られる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)