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1. (WO2009088039) COMPOSITION COMPORTANT UN GROUPE URÉE POUR FORMER UN FILM SOUS-JACENT DE RÉSERVE CONTENANT DU SILICIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/088039    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/050143
Date de publication : 16.07.2009 Date de dépôt international : 08.01.2009
CIB :
G03F 7/11 (2006.01), C08G 77/26 (2006.01), C08L 83/08 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo, 1010054 (JP) (Tous Sauf US).
NAKAJIMA, Makoto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KANNO, Yuta [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIBAYAMA, Wataru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAKAJIMA, Makoto; (JP).
KANNO, Yuta; (JP).
SHIBAYAMA, Wataru; (JP)
Mandataire : HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-004312 11.01.2008 JP
Titre (EN) COMPOSITION HAVING UREA GROUP FOR FORMING SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLYING FILM
(FR) COMPOSITION COMPORTANT UN GROUPE URÉE POUR FORMER UN FILM SOUS-JACENT DE RÉSERVE CONTENANT DU SILICIUM
(JA) ウレア基を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a composition for forming a resist underlying film for lithography, which is used for forming a resist underlying film that can be used as a hardmask. Specifically disclosed is a composition for forming a resist underlying film for lithography, which contains a hydrolyzable organosilane containing a urea group, a hydrolysis product thereof or a hydrolysis-condensation product thereof. The hydrolyzable organosilane is represented by Formula (1). [In Formula (1), at least one of T1, T2 and T3 represents a group which is represented by Formula (2).]
(FR)L'invention porte sur une composition pour former un film sous-jacent de réserve pour lithographie, qui est utilisée pour former un film sous-jacent de réserve qui peut être utilisé comme masque dur. De façon plus précise, l'invention porte sur une composition pour former un film sous-jacent de réserve pour lithographie, qui contient un organosilane hydrolysable contenant un groupe urée, un produit d'hydrolyse de celui-ci ou un produit d'hydrolyse-condensation de celui-ci. L'organosilane hydrolysable est représenté par la Formule (1). [Dans la Formule (1), au moins l'un parmi T1, T2 et T3 représente un groupe qui est représenté par la Formule (2).]
(JA)【課題】ハードマスクとして使用できるレジスト下層膜を形成するためのリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物を提供する。 【解決手段】ウレア基を含む加水分解性オルガノシラン、その加水分解物、又はその加水分解縮合物を含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。加水分解性オルガノシランが式(1): 【化1】 〔式(1)中、T1、T2及びT3はそれら3つの基のうち少なくとも一つが式(2): 【化2】 表される基を示す。〕で表されるものである。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)