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1. (WO2009087983) ARTICLE RECOUVERT D'UN FILM À FROTTEMENT RÉDUIT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/087983    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/050006
Date de publication : 16.07.2009 Date de dépôt international : 05.01.2009
CIB :
B32B 9/00 (2006.01), B05D 7/00 (2006.01), B60J 1/02 (2006.01), B60S 1/02 (2006.01), C03C 17/25 (2006.01)
Déposants : Nippon Sheet Glass Company, Limited [JP/JP]; 5-27, Mita 3-chome, Minato-ku, Tokyo, 1086321 (JP) (Tous Sauf US).
TERANISHI, Toyoyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMADA, Kenichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TERANISHI, Toyoyuki; (JP).
YAMADA, Kenichi; (JP)
Mandataire : OHTANI, Tamotsu; OHTANI PATENT OFFICE, Bridgestone Toranomon Bldg. 6F., 25-2, Toranomon 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-002149 09.01.2008 JP
Titre (EN) LOW-FRICTION FILM-COVERED ARTICLE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
(FR) ARTICLE RECOUVERT D'UN FILM À FROTTEMENT RÉDUIT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
(JA) 低摩擦性被膜被覆物品およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a low-friction film-covered article comprising a base material and a low-friction coating film formed on the base material. The low-friction coating film is formed on the side to contact a wiping member. The low-friction coating film contains silicon oxide as its main component. When the condition for measuring a coefficient of dynamic friction between the surface of the low-friction coating film and the wiping member is exemplified by a speed of 50 cm/min., at which the wiping member moves over the surface of the low-friction coating film, the coefficient of dynamic friction in a wet state is 0.30 or less. Also disclosed is a method for manufacturing the low-friction film-covered article.
(FR)L'invention concerne un article recouvert d'un film à frottement réduit, qui comprend une matière de base et un film de revêtement à frottement réduit formé sur la matière de base. Le film de revêtement à frottement réduit est formé sur la face destinée à être mise en contact avec un élément d'essuyage. Le film de revêtement à frottement réduit contient de l'oxyde de silicium comme composant principal. Lorsqu'on prend par exemple, comme condition de mesure d'un coefficient de frottement dynamique entre la surface du film de revêtement à frottement réduit et l'élément d'essuyage, une vitesse de 50 cm/min., vitesse à laquelle l'élément d'essuyage se déplace sur la surface du film de revêtement à frottement réduit, le coefficient de frottement dynamique à l'état mouillé est égal ou inférieur à 0,30. L'invention concerne aussi un procédé de fabrication de l'article recouvert du film à frottement réduit.
(JA) 基材と、該基材上に形成された低摩擦性被膜とを有し、前記低摩擦性被膜が払拭部材と接触する側に形成されてなり、前記低摩擦性被膜が酸化珪素を主成分とし、前記低摩擦性被膜の表面と前記払拭部材との間の動摩擦係数の測定条件として、前記低摩擦性被膜の表面を前記払拭部材が移動する速度を50cm/minとしたとき、湿潤状態の動摩擦係数が、0.30以下である低摩擦性被膜被覆物品、および当該低摩擦性被膜被覆物品を製造する方法である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)