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1. (WO2009087784) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE RECUIT LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/087784    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/060044
Date de publication : 16.07.2009 Date de dépôt international : 30.05.2008
CIB :
H01L 21/268 (2006.01), H01L 21/20 (2006.01)
Déposants : IHI Corporation [JP/JP]; 1-1, Toyosu 3-chome, Koto-ku Tokyo, 1358710 (JP) (Tous Sauf US).
KAWAGUCHI, Norihito [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWAKAMI, Ryusuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHIDA, Kenichiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MASAKI, Miyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MORITA, Masaru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAWAGUCHI, Norihito; (JP).
KAWAKAMI, Ryusuke; (JP).
NISHIDA, Kenichiro; (JP).
MASAKI, Miyuki; (JP).
MORITA, Masaru; (JP)
Mandataire : HOTTA, Minoru; ASA INTERNATIONAL PATENT FIRM, 4F, Kenchiku-Kaikan, 26-20, Shiba 5-chome, Minato-ku Tokyo, 1080014 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-000347 07.01.2008 JP
Titre (EN) LASER ANNEAL METHOD AND DEVICE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE RECUIT LASER
(JA) レーザアニール方法及び装置
Abrégé : front page image
(EN)In the case of a lens array type homogenizer optical system, laser beam irradiation is carried out while lens arrays (20a, 20b) for a long axis are made to move back and forth in a direction (X direction) corresponding to the long axis direction of a linear beam, so that an incident angle and the intensity of laser light (1) incident on a large scale lens (condenser lens (22) for a long axis) composing a light collecting system set at a latter stage for a long axis are changed for every shot and a vertical stripe is greatly reduced. Further, laser beam irradiation is carried out while lens arrays (26a, 26b) for a short axis are made to move back and forth in a direction (Y direction) corresponding to the short axis direction of a linear beam, so that an incident angle and the intensity of laser light (1) which is incident on a large scale lens (projection lens (30)) composing a light collecting system set at a latter stage for a short axis are changed for every shot and a horizontal stripe is greatly reduced.
(FR)Selon l'invention, dans le cas d'un système optique homogénéisateur de type à réseau de lentilles, une irradiation laser est effectuée pendant que des réseaux de lentilles (20a, 20b) pour un grand axe sont amenés à se déplacer en va-et-vient dans une direction (direction X) correspondant à la direction de grand axe d'un faisceau linéaire, de telle manière qu'un angle incident et l'intensité de rayonnement laser (1) incident sur une lentille à grande échelle (lentille condensatrice (22) pour un grand axe) composant un système de captage de lumière placé à un étage ultérieur pour un grand axe sont modifiés pour chaque tir et une bande verticale est fortement réduite. En outre, une irridiation laser est effectuée pendant que des réseaux de lentilles (26a, 26b) pour un petit axe sont amenés à se déplacer en va-et-vient dans une direction (direction Y) correspondant à la direction de petit axe d'un faisceau linéaire, de telle manière qu'un angle incident et l'intensité de rayonnement laser (1) qui est incident sur une lentille à grande échelle (lentille de projection (30)) composant un système de captage de lumière placé à un étage ultérieur pour un petit axe sont modifiés pour chaque tir et une bande horizontale est fortement réduite.
(JA) レンズアレイ方式のホモジナイザ光学系の場合、長軸用レンズアレイ20a,20bを線状ビームの長軸方向に対応する方向(X方向)に往復動させながらレーザ照射を行うことにより、後段に設置された長軸用集光光学系を構成する大型レンズ(長軸用コンデンサレンズ22)に入射するレーザ光1の入射角及び強度がショットごとに変化するので、縦縞が大幅に低減される。また、短軸用レンズアレイ26a,26bを線状ビームの短軸方向に対応する方向(Y方向)に往復動させながらレーザ照射を行うことにより、後段に設置された短軸用集光光学系を構成する大型レンズ(投影レンズ30)に入射するレーザ光1の入射角及び強度がショットごとに変化するので、横縞が大幅に低減される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)