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1. (WO2009087029) PROCÉDÉS DE PHOTOLITHOGRAPHIE À EXPOSITIONS MULTIPLES ET COMPOSITIONS DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/087029    N° de la demande internationale :    PCT/EP2008/067736
Date de publication : 16.07.2009 Date de dépôt international : 17.12.2008
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road, Armonk, New York 10504 (US) (Tous Sauf US).
IBM UNITED KINGDOM LIMITED [GB/GB]; PO Box 41, North Harbour, Portsmouth Hampshire PO6 3AU (GB) (MG only).
HUANG, Wu-Song [US/US]; (US) (US Seulement).
LIU, Sen [CN/US]; (US) (US Seulement).
CHEN, Kuang-Jung [US/US]; (US) (US Seulement).
KWONG, Ranee Wai-Ling [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HUANG, Wu-Song; (US).
LIU, Sen; (US).
CHEN, Kuang-Jung; (US).
KWONG, Ranee Wai-Ling; (US)
Mandataire : BURT, Roger, James; IBM United Kingdom Limited, Intellectual Property Law, Hursley Park, Winchester Hampshire SO21 2JN (GB)
Données relatives à la priorité :
11/970,761 08.01.2008 US
Titre (EN) MULTIPLE EXPOSURE PHOTOLITHOGRAPHY METHODS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS
(FR) PROCÉDÉS DE PHOTOLITHOGRAPHIE À EXPOSITIONS MULTIPLES ET COMPOSITIONS DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
Abrégé : front page image
(EN)A method and a composition. The composition includes a polymer and a photosensitive acid generator capable of generating a first amount of acid upon exposure to a first dose of radiation and a second amount of acid upon exposure to a second dose of radiation. The second amount of acid is greater than said first amount of acid. The second dose is greater than the first dose. The composition includes a photosensitive base generator capable of generating a first amount of base upon exposure to the first dose and a second amount of base upon exposure to the second dose, where the first amount of base is greater than the first amount of acid and the second amount of base is less than the second amount of acid. A method for exposing to radiation a film of a photoresist on a substrate is included.
(FR)La présente invention concerne un procédé et une composition. Ladite composition comprend un polymère et un générateur d'acide photosensible permettant de produire une première quantité d'acide lors d'une exposition à une première dose de rayonnement et une seconde quantité d'acide lors d'une exposition à une seconde dose de rayonnement. La seconde quantité d'acide est supérieure à la première. La seconde dose est supérieure à la première dose. La composition comprend un générateur de base photosensible apte à produire une première quantité de base lors d'une exposition à la première dose et une seconde quantité de base lors d'une exposition à la seconde dose, la première quantité de base étant supérieure à la première quantité d'acide et la seconde quantité de base étant inférieure à la seconde quantité d'acide. L'invention concerne également un procédé permettant d'exposer un film de résine photosensible sur un substrat à un rayonnement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)