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1. (WO2009086772) SYSTÈME DE DISTRIBUTION DE GAZ ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEUR UTILISANT LE SYSTÈME DE DISTRIBUTION DE GAZ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/086772    N° de la demande internationale :    PCT/CN2008/073430
Date de publication : 16.07.2009 Date de dépôt international : 10.12.2008
CIB :
C23C 16/455 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : BEIJING NMC CO., LTD. [CN/CN]; No.1 East Jiuxianqiao Road, Chaoyang District, Beijing 100016 (CN) (Tous Sauf US).
NAN, Jianhui [CN/CN]; (CN) (US Seulement)
Inventeurs : NAN, Jianhui; (CN)
Mandataire : TEE & HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; ZHANG, Tianshu, Room 718, Beijing Capital Times Square, 88 Xichang'an Avenue, Xicheng District, Beijing 100031 (CN)
Données relatives à la priorité :
200710179336.9 12.12.2007 CN
Titre (EN) GAS DISTRIBUTION SYSTEM AND SEMICONDUCTOR PROCESSING DEVICE USING THE GAS DISTRIBUTION SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE DISTRIBUTION DE GAZ ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEUR UTILISANT LE SYSTÈME DE DISTRIBUTION DE GAZ
(ZH) 气体分配系统和应用该气体分配系统的半导体处理设备
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a gas distribution system for use in feeding process gases to reaction zones, which includes a gas supply section, a switching section and a flow control section connected sequentially. The gas supply section is used to provide process gases and to feed them to the switching section. The switching section is used to stop feeding process gases required in the current process to the flow control section and to turn to feeding process gases required in the next process when the current process and the next process are switched. The flow control section is an integrated flow controller and is used to control the flow of process gasesaccording to process requirements and to feed the process gases to reaction zones. Moreover, provided is a semiconductor processing device using the above gas distribution system.
(FR)L'invention porte sur un système de distribution de gaz destiné à être utilisé lors de la délivrance de gaz de traitement à des zones de réaction, qui comprend une section d'alimentation en gaz, une section de commutation et une section de commande d'écoulement raccordées séquentiellement. La section d'alimentation en gaz est utilisée pour délivrer des gaz de traitement et pour les amener à la section de commutation. La section de commutation est utilisée pour arrêter la délivrance de gaz de traitement nécessaires lors du traitement en cours à la section de commande d'écoulement et pour permettre la délivrance de gaz de traitement nécessaires lors du traitement suivant lorsque le traitement en cours et le traitement suivant sont commutés. La section de commande d'écoulement est un régulateur de flux intégré et est utilisée pour commander l'écoulement de gaz de traitement en fonction d'exigences de traitement et pour délivrer les gaz de traitement à des zones de réaction. De plus, l'invention porte sur un dispositif de traitement de semi-conducteur utilisant le système de distribution de gaz.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)