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1. (WO2009086263) PROCÉDÉS POUR PRÉPARER DES FILMS MINCES UTILISANT DES PRÉCURSEURS DE PYRROLYL-MÉTAL SUBSTITUÉS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/086263    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/087938
Date de publication : 09.07.2009 Date de dépôt international : 22.12.2008
CIB :
C23C 16/40 (2006.01), C07F 3/00 (2006.01), C07F 3/04 (2006.01)
Déposants : SIGMA-ALDRICH CO. [US/US]; 3050 Spruce St., St. Louis, MO 63103 (US) (Tous Sauf US).
HEYS, Peter, Nicholas [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
DAVIES, Hywel, Owen [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : HEYS, Peter, Nicholas; (GB).
DAVIES, Hywel, Owen; (GB)
Mandataire : ROBERT, Erin, C.; Harness, Dickey & Pierce P.L.C., 7700 Bonhomme, Suite 400, St. Louis, MO 63105 (US)
Données relatives à la priorité :
61/017,399 28.12.2007 US
61/083,750 25.07.2008 US
Titre (EN) METHODS FOR PREPARING THIN FILMS USING SUBSTITUTED PYRROLYL-METAL PRECURSORS
(FR) PROCÉDÉS POUR PRÉPARER DES FILMS MINCES UTILISANT DES PRÉCURSEURS DE PYRROLYL-MÉTAL SUBSTITUÉS
Abrégé : front page image
(EN)Methods of preparing metal oxide thin films by atomic layer deposition are provided. One method comprises delivering at least one precursor, or an adduct thereof, to a substrate, wherein the at least one precursor corresponds in structure to Formula I:M[(R)npyr*]2 (Formula I) wherein: M is Sr, Ba or Ca; R is independently C1-C10-alkyl or C1Q10-alkoxy; and n is 1, 2, 3 or 4.
(FR)L'invention concerne des procédés de préparation de films minces en oxyde de métal par dépôt de couche atomique. Un procédé comprend la délivrance d'au moins un précurseur, ou d'un produit d'additionnel de celui-ci, à un substrat, le au moins un précurseur correspondant en structure à la formule I : M[(R)npyr*]2 (Formule I) dans laquelle : M est Sr, Ba ou Ca; R est indépendamment un alkyle en C1 à C10 ou alcoxy en C1 à C10; et n vaut 1, 2, 3 ou 4.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)